光氧除味設(shè)備想要達(dá)到理想的工作效率，在設(shè)計原理上不斷引進(jìn)高新技術(shù)，不斷的讓設(shè)備技術(shù)在進(jìn)步，光氧化催化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，使H2O2分解產(chǎn)生自由基的速率大大加快，促近有機(jī)物的氧化去除。

光氧一體機(jī)

產(chǎn)品概述

本產(chǎn)品采用高能高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、高能離子發(fā)生器的工藝來降解惡臭氣體（有機(jī)廢氣），改變惡臭氣體如：氨、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫，硫化物H2S、VOC類，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

UV光氧除味設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)品性能

1.無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。

2.設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

3.材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。