UV-PLUS專利光學(xué)系統(tǒng)：SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測(cè)器的優(yōu)勢(shì)：光電倍增管和CCD檢測(cè)器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，專利光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅(jiān)固，同時(shí)減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS專利技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測(cè)量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過率。光室內(nèi)的氣由分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氣的高純度。

直讀光譜儀儀器的校準(zhǔn)應(yīng)先由硬件開始，然后才是軟件。直讀光譜儀的校準(zhǔn)手段如下:描跡是對(duì)光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的校準(zhǔn)。這是校準(zhǔn)的首要前提。

在此條件下可進(jìn)行如下校準(zhǔn):標(biāo)準(zhǔn)化即再校準(zhǔn)工作曲線，然后可用到的校準(zhǔn)方法有:(1)、修改持久工作曲線法(修改標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù))(2)、控樣法;(3)、類型標(biāo)準(zhǔn)化法。(1)機(jī)械校準(zhǔn)(2)光學(xué)校準(zhǔn)(3)電氣校準(zhǔn)(4)軟件校準(zhǔn)我覺得校準(zhǔn)應(yīng)該是包括硬件校準(zhǔn)和軟件校準(zhǔn)。

直讀光譜儀直讀光譜儀器硬件包括狹縫校準(zhǔn)、入射窗口清潔、負(fù)高壓系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換等。這是儀器正常工作的先覺條件。軟件包括:完全標(biāo)準(zhǔn)化，類型標(biāo)準(zhǔn)化(控樣校準(zhǔn))等。完全標(biāo)準(zhǔn)化是用于校正儀器的漂移而引起的工作曲線的變化。而控樣校準(zhǔn)可以修正樣品冶煉方式與工作曲線(即與做工作曲線的標(biāo)樣的冶煉方式的差異)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

直讀光譜儀器的誤差來源有哪些？1)系統(tǒng)誤差也叫可測(cè)誤差，一般包括儀器的本身波動(dòng)；樣品的給定值和實(shí)際值存在一定的偏差（標(biāo)準(zhǔn)樣品的元素定值方法可能和實(shí)際檢測(cè)方法不一致，這樣檢測(cè)結(jié)果會(huì)有方法上的差異；同一種方法的檢測(cè)結(jié)果也存在一定的波動(dòng)）；待測(cè)樣品和系列標(biāo)樣之間存在成分的差異，可能導(dǎo)致在蒸發(fā)、解離過程中的誤差，如背景強(qiáng)度的差別和基體蒸發(fā)的差異等。2)偶然誤差是一種無規(guī)律性的誤差，如試樣不均勻；檢測(cè)時(shí)周圍的溫濕度、電源電壓等的變化；樣品本身的成分差異等。3)過失誤差是指分析人員工作中的操作失誤所得到的結(jié)果，可以避免。如制樣不確，樣品前處理不符合要求，控樣和待測(cè)試樣存在制樣偏差，選擇了錯(cuò)誤的分析程序等。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制