等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對(duì)工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

等離子拋光加工等離子拋光加工廠

等離子拋光在金屬表面處理行業(yè)的應(yīng)用。

一般需要做真空鍍膜或真空鍍膜的產(chǎn)品，在開始前都會(huì)先做清洗工藝，部份客戶取用等離子拋光工藝，然后再做真空鍍膜工藝（如圖6）。特別是對(duì)于那些用布輪或者是麻輪做過拋光處理的產(chǎn)品就顯得尤為重要。這是因?yàn)楫a(chǎn)品在經(jīng)過輪子拋光后易留下輪紋，造成表面陰陽色或顏色不均勻現(xiàn)象發(fā)生，這樣經(jīng)過真空鍍膜后就會(huì)呈現(xiàn)得更為明顯，呈現(xiàn)出鍍膜顏色不均勻，陰陽面等問題，但是采用等離子拋光工藝的要比清洗工藝良率要多30%以上，給前工序拋光工藝為拋除表面的輪紋減小很大壓力，產(chǎn)能明顯上升。這個(gè)主要是我們利用等離子拋光能夠很好的提高產(chǎn)品的光澤度和降低產(chǎn)品表面粗糙度及提高表面硬度。

等離子拋光廠家等離子拋光加工廠

等離子拋光工藝還有退掉鍍膜的功效，我們只要通過特定的拋光劑,在短的時(shí)間（30～180s）內(nèi)就可以完全脫掉鍍膜。這樣大大節(jié)省脫膜時(shí)間。對(duì)于那些表面真空鍍氮化碳或氮化鉻的產(chǎn)品,脫膜相對(duì)較難,通過等離子拋光也能去完全將表面膜層去除干凈,但是拋光時(shí)間需要延長一倍以上。雖說拋光時(shí)間相對(duì)增加，但任然不會(huì)傷到基材表面，相反會(huì)大大增加返鍍的良率（因?yàn)榈入x子拋光能很好提高表面的光澤度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光潔，導(dǎo)電性能好）。