真空電鍍工藝

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：可以利用電阻產(chǎn)生的熱能，也可以利用電子束。

在對塑料制品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。真空電鍍技術(shù)在太陽能利用方面的應(yīng)用：當需要有效地利用太陽熱能時，真空電鍍就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。

鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

根據(jù)工件要求提出除氫方法

　　例如鍍硬鉻，在鍍硬鉻時由于電流效率過低，只有13%~18%，大部分電流消耗在氫的析出上，氫容易擴散到鍍層和基體金屬的晶格中，滲氫較為嚴重，從而引起疲勞強度的降低，影響動、靜負載強度，故在設(shè)計中應(yīng)提出鍍鉻后除氫處理的要求。經(jīng)除氫處理之后可去除滲入鍍層和基體中60%~70%的氫，從而大大減輕了脆性而不會降低其硬度。實踐證明，該工藝方法既可保持工件各部分的溫度均勻，達到完整的除氫效果，又可有效想鉻層的孔隙、裂縫中填充油脂，從而提高了鉻層的防護能力。

       熱油代替在烘箱內(nèi)除氫

　　鍍鉻的電流效率很低，因而鍍層孔隙率較高，且鍍層極易鈍化，同時由于鋼鐵件表面的鉻層優(yōu)勢陰極性鍍層，當鍍層厚度較薄時極易引起銹蝕。為改善這一缺陷環(huán)節(jié)，可采取熱油除氫代替在同樣工藝條件下的烘箱中除氫工藝。實踐證明，該工藝方法既可保持工件各部分的溫度均勻，達到完整的除氫效果，又可有效想鉻層的孔隙、裂縫中填充油脂，從而提高了鉻層的防護能力。隨著汽車工業(yè)的迅速發(fā)展，人們對汽車抵御外界環(huán)境作用能力和汽車長期運行的可靠性、穩(wěn)定性、耐蝕性以及汽車的外觀美觀度提出了越來越高的要求。

   電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防護、裝飾甚至賦予特殊功能等作用。

　　電鍍分為掛鍍、滾鍍、連續(xù)鍍和刷鍍等方式，主要與待鍍件的尺寸和批量有關(guān)。

　　掛鍍、滾鍍、連續(xù)鍍和刷鍍的適用對象

　　(1)掛鍍是工件裝夾在掛具上，適宜大零件，每一批能鍍的產(chǎn)品數(shù)量少，鍍層厚度10μm以上的工藝。如汽車的保險杠,自行車的車把等。掛鍍生產(chǎn)線可以分成手動線，自動線。

　　(2)連續(xù)鍍，簡單來說就是一個物體不間斷的按流程進行電鍍，穿越不同的電鍍槽來完成整套的電鍍流程，適用于成批生產(chǎn)的線材和帶材

　　(3)刷鍍是用一個同陽極連接并能提供電鍍需要的電解液的電極或刷，在作為陰極的制件上移動進行選擇電鍍的方法，適用于局部鍍或修復(fù)。

　　(4)滾鍍通常適用于小零件。滾鍍嚴格意義上講叫做滾筒電鍍，他是將一定數(shù)量的小零件置于專用滾筒內(nèi)、在滾動狀態(tài)下一間接導(dǎo)電的方式使零件表面沉積上各種金屬或合金鍍層、以達到表面防護裝飾及各種功能性目的的一種電鍍加工方式。根據(jù)滾筒使用不同，將電鍍生產(chǎn)中常見的滾鍍方式劃分為臥式滾鍍、傾斜時滾鍍和振動滾鍍?nèi)箢悺！羲挟a(chǎn)品均采用真空爐內(nèi)納米離子鍍膜及磁控濺射處理，所應(yīng)用的鍍料均有合格的檢測證明，保障電鍍質(zhì)量，綠色環(huán)保。

真空電鍍的應(yīng)用領(lǐng)域

真空電鍍技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用：隨著經(jīng)濟的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。

真空電鍍技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用：真空電鍍所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ITO膜，真空電鍍以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說：沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。

真空電鍍技術(shù)在太陽能利用方面的應(yīng)用：當需要有效地利用太陽熱能時，真空電鍍就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20?真空電鍍屬于鍍膜工藝的新發(fā)展，那么真空電鍍的應(yīng)用范圍到底有多廣呢。m之間的紅外波段。真空電鍍理想的選擇吸收面是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1，真空電鍍在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。