公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板，通過曝光過程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上，用來制造芯片。

由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對所提交的版圖文件仔細(xì)核對，確保圖形正確性。以下將對用戶較為關(guān)心的版圖繪制問題作出具體說明。光刻板本體的外部邊緣增設(shè)一保護(hù)環(huán)，保護(hù)環(huán)具有多種開孔，以便在保護(hù)環(huán)處的硅片的邊緣處刻出晶粒，將光刻板本體處的硅片保護(hù)起來，硅片邊緣刻出晶粒后，邊緣的不合格情況通過目測可以清楚看出，能有效防止混料情況。光掩模板或者光罩，曝光過程中的原始圖形的載體，通過曝光過程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時用.

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像至相片上。