光學(xué)玻璃的用途廣泛

能改變光的傳播方向，并能改變紫外、可見或紅外光的相對光譜分布的玻璃叫做光學(xué)玻璃。它是通過折射、反射、透過方式傳遞光線或通過吸收改變光的強(qiáng)度或光譜分布的一種無機(jī)玻璃態(tài)材料。具有穩(wěn)定的光學(xué)性質(zhì)和高度光學(xué)均勻性。

光學(xué)玻璃是用于制造光學(xué)儀器或機(jī)械系統(tǒng)的透鏡、棱鏡、反射鏡、窗口等的玻璃材料。包括無色光學(xué)玻璃(通常簡稱光學(xué)玻璃)、有色光學(xué)玻璃、耐輻射光學(xué)玻璃、防輻射玻璃和光學(xué)石英玻璃等。

光學(xué)玻璃具有高度的透明性、化學(xué)及物理學(xué)(結(jié)構(gòu)和性能)上的高度均勻性，具有特定和精l確的光學(xué)常數(shù)。它可分為硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽、氟化物和硫系化合物系列。品種繁多，主要按他們在折射率(nD)-阿貝值(VD)圖中的位置來分類。傳統(tǒng)上nD>1.60，VD>50和nD<1.60，VD>55的各類玻璃定為冕(K)玻璃，其余各類玻璃定為火石(F)玻璃。冕玻璃一般作凸透鏡，火石玻璃作凹透鏡。石英玻璃和普通玻璃的區(qū)別：1、色澤：石英玻璃是二氧化硅單一組分的玻璃，所以一定是無色的，普通玻璃一般都有些顏色。通常冕玻璃屬于含堿硼硅酸鹽體系，輕冕玻璃屬于鋁硅酸鹽體系，重冕玻璃及鋇火石玻璃屬于無堿硼硅酸鹽體系，絕大部分的火石玻璃屬于鉛鉀硅酸鹽體系。隨著光學(xué)玻璃的應(yīng)用領(lǐng)域不斷拓寬，其品種在不斷擴(kuò)大，其組成中幾乎包括周期表中的所有元素。

影響光學(xué)玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵：光學(xué)玻璃經(jīng)過清洗后能否達(dá)到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學(xué)玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法：

（1）玻璃本身的質(zhì)量螺旋送料機(jī)及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等，在機(jī)械處理中，如：研磨，搽試，測應(yīng)力時，人為導(dǎo)致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動及溫度，水質(zhì)；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學(xué)式C3H8，具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴，具有較強(qiáng)的 溶油能力；特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大??； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱，當(dāng)PH 值大于12時，側(cè)清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時間也同高溫循環(huán)風(fēng)機(jī)樣影響去污效率； 當(dāng)溫度上升，溶液的反應(yīng)速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高，會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

（5）在清洗過程中，還應(yīng)注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質(zhì)會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學(xué)玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān)；

（7）清洗環(huán)境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應(yīng)盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水??；烘箱溫度控制在70度左右，時間在20分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

光學(xué)玻璃模壓成型技術(shù)的應(yīng)用

光學(xué)玻璃透鏡模壓成型技術(shù)是一種光學(xué)元件加工技術(shù)，它是把軟化的光學(xué)玻璃放入的模具中，在加溫加壓和無氧的條件下，一次性直接模壓成型出達(dá)到使用要求的光學(xué)零件。這項技術(shù)現(xiàn)在已成為國際上先進(jìn)的光學(xué)零件制造技術(shù)方法之一，由于此項技術(shù)能夠直接壓制成型精密的非球面光學(xué)玻璃零件，從此便開創(chuàng)了光學(xué)儀器可以廣泛采用非球面玻璃光學(xué)零件的時代。因此，也給光電儀器的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計帶來了新的變化和發(fā)展，不僅使光學(xué)儀器縮小了體積、減少了重量、節(jié)省了材料、減少了光學(xué)零件鍍膜和工件裝配的工作量、降低了成本，而且還改善了光學(xué)儀器的性能，提高了光學(xué)成像的質(zhì)量。如何對不同材質(zhì)的光學(xué)鏡片選擇對應(yīng)的拋光粉光學(xué)鏡片經(jīng)過研磨液細(xì)磨后，其表面尚有厚約2–3m的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。

如何對不同材質(zhì)的光學(xué)鏡片選擇對應(yīng)的拋光粉

光學(xué)鏡片經(jīng)過研磨液細(xì)磨后，其表面尚有厚約 2–3 m 的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機(jī)制一樣，唯其所使用的工具材質(zhì)與拋光液 (slurry) 不同，拋光所使用的材料有絨布 (cloth)、拋光皮 (polyurethane) 及瀝青 (pitch)，通常要達(dá)到的拋光面，常使用的材料為拋光瀝青。拋光與研磨所用的運(yùn)動機(jī)構(gòu)相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時所需環(huán)境條件亦較研磨時嚴(yán)苛。 

拋光與研磨所用的運(yùn)動機(jī)構(gòu)相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時所需環(huán)境條件亦較研磨時嚴(yán)苛。一般拋光時要注意的事項如下：  

拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì)，不然會造成鏡面刮傷。  

拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合，否則拋光時會產(chǎn)生跳動，因而咬持拋光粉而刮