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JGS1光學石英承諾守信,諾立光學石英

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發(fā)布時間:2020-10-28 16:19  






光學玻璃中稀土元素的重要性

光學玻璃不同于普通玻璃,是一種對于通光率、折光率等等專業(yè)性用法非常重要的光學玻璃產(chǎn)品,在航天觀測、微觀成像、外空探測、對地繪制等等領(lǐng)域上都有非常重要的作用,是現(xiàn)代科技、民用、軍l工等等行業(yè)中都非常重要的產(chǎn)品。但是這一切的基礎(chǔ),不僅僅需要發(fā)展玻璃的加工制造工藝,對稀土元素的需求也十分的重要。光學玻璃高精化的方法激光加工激光加工是一種比較適用于單件和小批量加工的現(xiàn)代精密加工方法,其獨有的優(yōu)點是無接觸、無切削力、熱影響小、加工環(huán)境干凈整潔。


影響光學玻璃清洗的因素有哪些呢?下面具體看看:

A,清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵:光學玻璃經(jīng)過清洗后能否達到表面不留任何油污,污跡,表面光滑,水膜完好!

B,影響清洗后光學玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法:

(1)玻璃本身的質(zhì)量螺旋送料機及被污染的情況,主要為:表面有霉點,氣泡,劃傷等,在機械處理中,如:研磨,搽試,測應(yīng)力時,人為導致的污染情況不一;

(2)清洗劑的選擇其能動及溫度,水質(zhì);我們采用非ODS的水類堿性清洗劑,主要由 水,堿,表面活性劑,防銹材料組成,化學式C3H8,具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴,具有較強的 溶油能力;特點:低毒,不燃,清洗成本低等特點;

(3)溶液的濃度直接影響清洗度的大??; 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間,若PH值大于箱式變壓站10,側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱,當PH 值大于12時,側(cè)清潔度下降。

(4)溶液溫度及浸泡時間也同高溫循環(huán)風機樣影響去污效率; 當溫度上升,溶液的反應(yīng)速度也上升,污染物的粘度下降,便于污染物脫離,但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高,會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

(5)在清洗過程中,還應(yīng)注意必須使用純水或去離子水,若使用自來水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污,且水中所含的Ca,Na離子等雜質(zhì)會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜,污染玻璃;

(6)光學玻璃經(jīng)清洗后需漂洗,漂洗后的清潔度,除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外,還與漂洗工序的多少,漂洗供水量的大小,溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān);

(7)清洗環(huán)境的清潔程度;

(8)清洗后的干燥工藝及溫度: 應(yīng)盡量保證玻璃垂直,可在玻璃下墊陶瓷柱,避免烘干后玻璃下沿有水??;烘箱溫度控制在70度左右,時間在20分鐘左右。若溫度過高,會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。


光學玻璃的精密拋光的化學穩(wěn)定性

光學玻璃元件在制造和使用過程中,其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學玻璃的化學穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC(S)(表面法)

根據(jù)對潮濕大氣作用的穩(wěn)定性,分為三級:

1級—在溫度50℃,相對濕度80%的條件下,光學玻璃拋光表面形成水解斑點的時間超過 20h;

2級—在相同試驗條件下,形成水解斑點的時間在5h~20h之間; 3級--在相同試驗條件下,形成水解斑點的時間不到5h。

光學玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA(S)(表面法)

根據(jù)對酸溶液作用的穩(wěn)定性,分為三級:

1級—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下,光學玻璃拋光表面的破壞深度達135nm的時間 超過5h;

2級—在相同試驗條件下,破壞深度達135nm的時間在1h~5h; 3級--在相同試驗條件下,破壞深度達135nm的時間不到1h。



JGS1光學石英

光學玻璃主要指用于光的透過、折射、反射、選擇吸收和衍射的傳光玻璃。近年來,光學玻璃作為光子材料在信息產(chǎn)生、傳輸、存儲、顯示、探測和處理等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,光學玻璃不再是單純的被動式傳光材料,主動式光功光學玻璃已成為光學玻璃的重要組成部分。光學玻璃常被用來制作衛(wèi)l星照相機鏡頭、隱形雷達探照鏡、高速飛行器窗口以及激光發(fā)射裝置中的光學透鏡、棱鏡等超精密零件。但是,經(jīng)過計算證明:如果對綠光與紅光消色差,那么藍光色差就會變得很大。由于光學玻璃的廣泛使用, 傳統(tǒng)的加工方法已不能滿足精密加工的需要, 尤其是對于非球曲面零件, 特別是具有小曲率半徑的非球凹面零件, 用傳統(tǒng)的加工方法加工較為困難且不能保證加工精度, 不符合現(xiàn)代高科技發(fā)展的要求。


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