真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應的蒸發(fā)電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發(fā)負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關都設在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統(tǒng)參數包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設置和數據顯示、真空系統(tǒng)的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發(fā)源加熱功率調節(jié)鈕和電流表，可以調節(jié)和顯示每組蒸發(fā)源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關，包括控制電源總開關、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉、送絲開關及速度快慢、蓋板開關、系統(tǒng)運行的控制模式選擇等。

pvd鍍膜設備鍍出的膜層出現異樣,是什么原因

之前有少數客戶會咨詢我們，為什么PVD鍍膜設備鍍出來的膜，偶爾會出現異樣的情況，問具體是什么原因。經過我們技術人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升，人們對產品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應用也越來越廣泛。PVD鍍膜設備也獲得越來越多的制造業(yè)廠家認可和喜愛，它的優(yōu)勢也是顯而易見的。大家都知道機器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術。和傳統(tǒng)的電鍍技術相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點，PVD電鍍工藝不良率高、生產效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個行業(yè)的痛點。隨著后期技術不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費者對產品外觀的提高，真空鍍膜技術在未來會有更廣闊的發(fā)展前景。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。