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脈沖激光沉積介紹
脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
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脈沖激光沉積簡(jiǎn)介
脈沖激光沉積,就是將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離,使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng),進(jìn)而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式。Neocera開發(fā)了離子輔助的PLD系統(tǒng),該系統(tǒng)將PLD在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與IBAD能力結(jié)合在一起。 在眾多的薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛,可用來制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。
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