電子束結(jié)構(gòu)介紹

粒子增速器的結(jié)構(gòu)可以與顯像管類(lèi)比。顯像管中的電子槍對(duì)應(yīng)于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對(duì)應(yīng)于增速器中的高壓加速電極及加速腔。顯像管中控制電子運(yùn)動(dòng)的電偏轉(zhuǎn)板與聚焦電子的聚焦線圈，對(duì)應(yīng)于增速器中控制粒子運(yùn)動(dòng)軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件，如導(dǎo)向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。對(duì)粒子增速器的粒子運(yùn)行管道來(lái)說(shuō)，為了減少粒子在運(yùn)動(dòng)中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞，所要求的真空度比顯像管要高數(shù)千到數(shù)萬(wàn)倍。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，根據(jù)科學(xué)家對(duì)粒子能量和流強(qiáng)的不同要求，陸續(xù)產(chǎn)生了不同原理、不同結(jié)構(gòu)的多種增速器。環(huán)狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場(chǎng)，其平行靶面的磁場(chǎng)分量和垂直于靶面的電場(chǎng)分量形成正交電磁場(chǎng)。

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電子束鍍膜機(jī)介紹

* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級(jí)分子泵為冷泵，前級(jí)泵為干泵

* 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾

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電子束鍍膜機(jī)電源柜的操作

1. 總電源

2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延遲開(kāi)關(guān)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延遲 及保護(hù)燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。

3. 開(kāi)高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。

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