常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

雖然薄膜的光學(xué)現(xiàn)象早在17世紀(jì)就為人們所注意，但是把光學(xué)薄膜作為一個課題進(jìn)行專門研究卻開始于20世紀(jì)30年代以后，這主要因為真空技術(shù)的發(fā)展給各種光學(xué)薄膜的制備提供了先決條件。發(fā)展到今日，光學(xué)薄膜已得到很大發(fā)展，光學(xué)薄膜的生產(chǎn)已逐步走向系列化、程序化和專業(yè)化，但是，在光學(xué)薄膜的研究中還有不少問題有待進(jìn)一步解決，光學(xué)薄膜現(xiàn)有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長機理需要搞清光學(xué)薄膜，而且薄膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實現(xiàn)對薄膜淀積參量的精準(zhǔn)控制，這樣，薄膜的生長就具有一定程度的隨機性，薄膜的光學(xué)常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學(xué)薄膜質(zhì)量的提高。所以，光學(xué)薄膜發(fā)展至今也可以說是一個飛躍性的進(jìn)步了，今天首先賡旭光電小編和大家一起來認(rèn)識一下生活當(dāng)中常見的幾種光學(xué)薄膜。

一，減反射膜：又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。

簡單的增透膜是單層膜，它是鍍在光學(xué)零件光學(xué)表面上的一層折射率較低的薄膜。當(dāng)薄膜的折射率低于基體材料的折射率時,兩個界面的反射系數(shù)r1和r2具有相同的

光學(xué)薄膜：位相變化。如果膜層的光學(xué)厚度是某一波長的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動方向相反，疊加的結(jié)果使光學(xué)表面對該波長的反射光減少。適當(dāng)選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時光學(xué)表面的反射光可以完全消除。

一般情況下，采用單層增透膜很難達(dá)到理想的增透效果,為了在單波長實現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達(dá)到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線。

真空鍍膜機蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

真空鍍膜機蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應(yīng)用的比較多。

電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多，廣泛的蒸發(fā)方式，也是應(yīng)用時間長的蒸發(fā)方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過鎢舟，鎢舟通電發(fā)熱，這些低電壓，大電流使高熔點的鎢舟產(chǎn)生熱量，再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發(fā)了，此方法由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，故被很多設(shè)備應(yīng)用，但是其蒸發(fā)出來的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時候，材料的熔點必須小于鎢舟的熔點，否則就沒有辦法進(jìn)行。

沖壓件真空鍍膜設(shè)備

工具經(jīng)沖壓件真空鍍膜設(shè)備硬質(zhì)涂層處理后，其性能更穩(wěn)定，可出穩(wěn)定、高質(zhì)量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半徑受到磨損，顯著延長工具的使用壽命；使用壽命的延長和行程率的提高在提高生產(chǎn)率的同時降低了單位成本；底層堅硬而頂層摩擦低的涂層系統(tǒng)，降低了粘附磨損，從而可能減少對環(huán)境產(chǎn)生不良影響的潤滑劑的用量，甚至完全不使用潤滑劑；因為涂層減少了工具負(fù)荷并因而降低了破損風(fēng)險，生產(chǎn)可靠性得以提高，對于金屬薄板成型工具，涂層可用作磨損指示器，磨損和冷焊的減少改進(jìn)了工件的表面質(zhì)量，也使工件能夠滿足對其外觀的更高要求，光潔度也與隨后的電鍍工藝更加相匹配。

真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運動部件的設(shè)計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。