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一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物
一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線,它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息,通過(guò)對(duì)X射線熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。如果入射的X射線使某元素的K層電子激發(fā)成光電子后L層電子躍遷到K層,此時(shí)就有能量ΔE釋放出來(lái),且ΔE=EK-EL,這個(gè)能量是以X射線形式釋放,產(chǎn)生的就是Kα射線,同樣還可以產(chǎn)生Kβ射線,L系射線等。由原子物理學(xué)的知識(shí),對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來(lái)說(shuō),都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu),其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛,成為自由電子,這時(shí)原子被激發(fā)了,處于激發(fā)態(tài)。此時(shí),其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位,即所謂的躍遷,同時(shí)以發(fā)出X射線的形式放出能量。
由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的,它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線的能量也是特定的,稱之為特征X射線。通過(guò)測(cè)定特征X射線的能量,便可以確定相應(yīng)元素的存在,而特征X射線的強(qiáng)弱(或者說(shuō)X射線光子的多少)則代表該元素的含量。
一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法 X射線熒光鍍層測(cè)厚儀
應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
X熒光鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)片選擇與使用
1.一般要求
使用可靠的參考標(biāo)準(zhǔn)塊校準(zhǔn)儀器。后的測(cè)量不確定度直接取決于校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)塊的測(cè)量不確定度和測(cè)量精度。
參考標(biāo)準(zhǔn)塊應(yīng)具有的已知單位面積質(zhì)量或厚度的均勻的覆蓋層,如果是合金,則應(yīng)知其組成。采用定量分析的時(shí)候,可以在樣品中加入高純度的二氧化硅,作為參比樣,并且摻量是已知的。參考標(biāo)準(zhǔn)塊的有效或限定表面的任何位置的覆蓋層不能超過(guò)規(guī)定值的±5%.只要用于相同的組成和同樣或已知密度的覆蓋層,規(guī)定以厚度為單位(而不是單位面積質(zhì)量)的標(biāo)準(zhǔn)塊,將是可靠的。合金組成的測(cè)定,校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)不需要相同,但應(yīng)當(dāng)已知。
金屬箔標(biāo)準(zhǔn)片。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標(biāo)準(zhǔn)片,就必須注意確保接觸清潔,無(wú)皺折紐結(jié)。任何密度差異,除非測(cè)量允許,否則必須進(jìn)行補(bǔ)償后再測(cè)。
2.標(biāo)準(zhǔn)塊的選擇
可用標(biāo)準(zhǔn)塊的單位面積厚度單位校準(zhǔn)儀器,厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來(lái)校正。其電鍍工藝流程如下:浸酸→全板電鍍銅→圖形轉(zhuǎn)移→酸性除油→二級(jí)逆流漂洗→微蝕→二級(jí)浸酸→鍍錫→二級(jí)逆流漂洗→浸酸→圖形電鍍銅→二級(jí)逆流漂洗→鍍鎳→二級(jí)水洗→浸檸檬酸→鍍金→回收→2-3級(jí)純水洗→烘干。標(biāo)準(zhǔn)片應(yīng)與被測(cè)試樣具有相同的覆蓋層和基體材料,但對(duì)試樣基材為合金成分的,有些儀器軟件允許標(biāo)樣基材可與被測(cè)試樣基材不同,但前提是標(biāo)準(zhǔn)塊基體材料與試樣基材中的主元素相同。
3.標(biāo)準(zhǔn)塊的X射線發(fā)射(或吸收)特性及使用
校正標(biāo)準(zhǔn)塊的覆蓋層應(yīng)與被測(cè)覆蓋層具有相同的X射線發(fā)射(或吸收)特性。
如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定,則厚度標(biāo)準(zhǔn)塊的基體應(yīng)與被測(cè)試樣的基體具有相同的X射線發(fā)射特性,通過(guò)比較被測(cè)試樣與校正參考標(biāo)準(zhǔn)塊的未鍍基體所選的特征輻射的強(qiáng)度,然后通過(guò)軟件達(dá)到對(duì)儀器的校正。
江蘇一六儀器 X熒光光譜測(cè)厚儀
下照式設(shè)計(jì):可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。
無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-90mm。
微聚焦射線裝置:可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品,可測(cè)試各微小的部件。
接收:即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性。
精密微型滑軌:快速精準(zhǔn)定位樣品。
EFP先進(jìn)算法軟件:多層多元素,甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。
江蘇一六儀器 X射線熒光鍍層測(cè)厚儀 元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)
厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物
x射線熒光鍍層測(cè)厚儀(國(guó)產(chǎn))是一款針對(duì)金屬電鍍層(鍍金、鍍鎳、鍍鋅、鍍錫等)厚度的,通過(guò)X熒光照射出產(chǎn)品,每個(gè)元素反射出的二次特征譜線,通過(guò)檢測(cè)器分析出強(qiáng)度來(lái)金屬鍍層的厚度,完全達(dá)到無(wú)損、快速分析的效果,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子電器、五金工具、電鍍企業(yè)(鋁平行管、電鍍五金),連接器企業(yè)、開(kāi)關(guān)企業(yè)等。通過(guò)測(cè)定特征X射線的能量,便可以確定相應(yīng)元素的存在,而特征X射線的強(qiáng)弱(或者說(shuō)X射線光子的多少)則代表該元素的含量或厚度。
x射線熒光鍍層測(cè)厚儀性能優(yōu)勢(shì)
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
minimum φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)x射線熒光鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)
一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
分析含量一般為2ppm到99.9%