如何減少真空鍍膜設(shè)備中的灰塵？

使用真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行鍍膜時(shí)，鍍膜表面的一層灰塵會(huì)影響真空鍍膜的整體效果，那么該如何減少灰塵呢？

1、使用的源材料要符合必要的純度要求；

2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題；

3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理；

4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求；

5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等；

6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物；

7、技術(shù)上明確允許的顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限大致是多少；

8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。

真空鍍膜機(jī)薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性：也能夠理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的標(biāo)準(zhǔn)上看（也即是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜機(jī)的均勻性現(xiàn)已相當(dāng)好，能夠輕松將粗糙度操控在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也即是說(shuō)關(guān)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何妨礙。

2.化學(xué)組分上的均勻性：即是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于標(biāo)準(zhǔn)過(guò)小而很簡(jiǎn)單的發(fā)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，假如鍍膜進(jìn)程不科學(xué)，那么實(shí)踐外表的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的份額，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技能含量地點(diǎn)。

3.晶格有序度的均勻性：這決議了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技能中的熱點(diǎn)問(wèn)題。

真空鍍膜機(jī)的安裝

真空鍍膜機(jī)應(yīng)安置于清潔而干燥的室內(nèi)。鍍膜工作室的環(huán)境應(yīng)是空氣清潔，設(shè)有空調(diào)設(shè)備，室溫一般在23~25℃之間，相對(duì)濕度為60%左右。

工作室溫度太高會(huì)影響抽速，溫度太低則機(jī)械泵難以起動(dòng)。室內(nèi)太潮濕會(huì)影響膜層質(zhì)量。

由于大多數(shù)膜料都有不同程度的毒性，當(dāng)鐘罩打開時(shí)會(huì)飛散在室內(nèi)空氣中，因此在鐘罩附近應(yīng)安裝抽風(fēng)設(shè)備，以便在鐘罩打開時(shí)抽掉真空室內(nèi)的有毒氣體與飛揚(yáng)的碎屑。

鍍膜機(jī)應(yīng)裝在靠墻處，但四周應(yīng)留有檢修與操作空間，并有冷卻水源，水壓約為3個(gè)大氣壓。鍍膜機(jī)的防振要求不高，無(wú)需特殊機(jī)座，但必須安置平穩(wěn)，不應(yīng)有振動(dòng)。