真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無牢固的化學(xué)結(jié)合。

  真空電鍍的簡(jiǎn)單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。

PVD電鍍的優(yōu)點(diǎn)：

·金屬外觀

      ·顏色均勻一致

      ·耐久的表面，在各種基本的的空氣和直射陽光環(huán)境條件下保持良好外觀。

       ·顏色深韻、光亮

·經(jīng)濟(jì)，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時(shí)間和成本。

·對(duì)環(huán)境無害，避免化學(xué)

 ·具生物兼容性

PVD 可以做出成千上萬種顏色，甚至可以說自然界有的顏色，差不多都可以用PVD的方法做出來。如金色系列：歐洲金（2N18 及1N14）、日本金（GY01）、中國(guó)金（GY2N） 等；咖啡系列：深咖、淺咖、中咖等；黑色系列：槍色、灰色、超黑色等；時(shí)尚系列：太空色、香擯色、卡其色等。

PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國(guó)制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

PVD鍍膜的具體原理是什么?

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。