半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離

子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括

重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)

致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。

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硅粉的研究始于斯堪的納維亞國家，盡管20世紀(jì)50年代人們對(duì)硅粉作用就有所認(rèn)識(shí)和初步的研究，但應(yīng)用于實(shí)際工程中是從70年始的，首先是挪威

和瑞典等國家在港口碼頭、北海油田及地下礦井中部分采用了硅粉混凝土，1982 年，挪威在伏諾維斯壩上正式采用了硅粉混凝土筑壩， 20世紀(jì)80

年代初加拿大在魁北克建立了硅粉混凝土，并對(duì)大體積硅粉混凝土進(jìn)行試驗(yàn)研究，拌制高標(biāo)號(hào)混凝土1

萬立方米，1983年美國用硅粉混凝土修補(bǔ)了奧里夫尼河上的卡查壩消力池，效果良好。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)。世界上其它國家也都加緊研究和應(yīng)用。    


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硅冶煉所用的主要還原劑有石油焦、煙煤、木炭。為增大爐料的電阻率，增加化學(xué)活性，也有搭配氣煤焦，硅石焦、藍(lán)炭、半焦、低溫焦、木塊的。在碳質(zhì)還

原劑化學(xué)成分中，主要應(yīng)考慮固定碳、灰分、揮發(fā)分和水分。一般要求固定碳要高，所需還原劑總量減少，從而灰分帶入的雜質(zhì)少，渣量相應(yīng)減少，電能消耗降低，

化學(xué)硅中雜質(zhì)含量降低。碳質(zhì)還原劑的電阻率要大，氣孔率要高。爐料電阻率主要取決于碳質(zhì)還原劑。碳質(zhì)還原劑電阻率大，化學(xué)活性好，硅的回收率高。

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