亂流潔凈室

亂流潔凈室的主要特點(diǎn)是從來流到出流（從送風(fēng)口到回風(fēng)口）之間氣流的流通截面是變化的，潔凈室截面比送風(fēng)口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作區(qū)截面形成勻速氣流。所以，送風(fēng)口以后的流線彼此有很大或者越來越大的夾角，曲率半徑很小，氣流在室內(nèi)不可能以單一方向流動，將會彼此撞擊，將有回流、旋渦產(chǎn)生。潔凈工作棚：為在亂流式之潔凈室空間內(nèi)以防靜電之透明塑料布圍成一小空間，采用獨(dú)立之HEPA或ULPA及空調(diào)送風(fēng)機(jī)組而成為一較高的潔凈空間，其等級為10~1000級，高度在2。這就決定亂流潔凈室的流態(tài)實(shí)質(zhì)是：突變流；非均勻流。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。單向流和層流的名稱均說明了其氣流的狀況：氣流以一個(gè)方向流動（或是垂直的或是水平的），并以一般是0。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢Ξa(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35—45%。

在規(guī)劃凈化工程建造時(shí)，如何以較小的投入實(shí)現(xiàn)做大的效益，完整較大產(chǎn)出，一直是凈化工程設(shè)計(jì)師非常看重的問題，的經(jīng)濟(jì)設(shè)計(jì)方案是實(shí)現(xiàn)效益較大化的選擇，凈化工程廠家設(shè)計(jì)方案的優(yōu)化再優(yōu)化，更多的是為了在潔凈工程成本核算的控制上，如何有效的控制潔凈工程的成本，一直是凈化工程師們比較苦悶的事情。但在一個(gè)操作間，機(jī)器以及機(jī)器周圍走動的人員，會對氣流形成障礙。

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