磁控濺射靶在鍍膜過(guò)程中的重要作用? ??

磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現(xiàn)在以下兩個(gè)方面(1)對(duì)于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復(fù)性；(2)當(dāng)膜層材料為貴重金屬時(shí)，靶的結(jié)構(gòu)決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率。

創(chuàng)世威納本著多年 磁控濺射鍍膜機(jī)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專注 磁控濺射鍍膜機(jī)研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進(jìn)的 磁控濺射鍍膜機(jī)生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！??！

磁控濺射

磁控濺射靶材的利用率可成為磁控濺射源的工程設(shè)計(jì)和生產(chǎn)工藝成本核算的一個(gè)參數(shù)。目前沒(méi)有見(jiàn)到對(duì)磁控濺射靶材利用率專門(mén)或系統(tǒng)研究的報(bào)道，而從理論上對(duì)磁控濺射靶材利用率近似計(jì)算的探討具有實(shí)際意義。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。對(duì)于靜態(tài)直冷矩形平面靶，即靶材與磁體之間無(wú)相對(duì)運(yùn)動(dòng)且靶材直接與冷卻水接觸的靶，?靶材利用率數(shù)據(jù)多在20%~30%左右(間冷靶相對(duì)要高一些，但其被刻蝕過(guò)程與直冷靶相同，不作專門(mén)討論)，且多為估計(jì)值。為了提高靶材利用率，研究出來(lái)了不同形式的動(dòng)態(tài)靶，其中以旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)圓柱靶工業(yè)上被廣泛應(yīng)用，據(jù)稱這種靶材的利用率可超過(guò)70%，但缺少足夠數(shù)據(jù)或理論證明。常見(jiàn)的磁控濺射靶材從幾何形狀上看有三種類型：矩形平面、圓形平面和圓柱管? 如何提高利用率是真空磁控濺射鍍膜行業(yè)的重點(diǎn),圓柱管靶利用高,但在有些產(chǎn)業(yè)是不適用的,如何提高靶材利用,請(qǐng)到此一看的朋友,在下面留下你的見(jiàn)解,提供好的方法。

想要了解更多 磁控濺射鍍膜機(jī)的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

磁控濺射技術(shù)鍍膜

磁控濺射技術(shù)鍍膜是一種重要的物理的氣相沉積鍍膜技術(shù)，這種工藝可工業(yè)化批量生產(chǎn)。本文重點(diǎn)探討了磁控濺射在光學(xué)鍍膜中的應(yīng)用，包括膜層設(shè)計(jì)和鍍膜工藝。

光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)

（1）減反射膜

減反射也稱增透膜，這種膜主要鍍?cè)谕该鞯驼凵渎驶咨?，如玻璃上鍍減反射膜，常見(jiàn)的膜層結(jié)構(gòu)采用高、低折射率膜層疊加而成

（2）彩色鍍膜 彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜，其膜層材料和結(jié)構(gòu)類似減反射鍍膜。這種玻璃在可見(jiàn)光下透射和反射的顏色不同。

3）漸變反射膜 漸變反射膜是一種在不同角度觀察，反射的顏色不同的膜層。這種膜層可以鍍?cè)诓Ａ?，也可以鍍?cè)诮饘倩住?

想要了解更多創(chuàng)世威納的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

磁控濺射鍍膜機(jī)的注意事項(xiàng)

1、保持機(jī)器內(nèi)艙各部位的清潔；

2、關(guān)注真空度指標(biāo)；

3、檢查并記錄抽真空的時(shí)間，如有延長(zhǎng)，立刻檢查造成的原因；

4、記錄濺射功率和時(shí)間（一般濺射機(jī)的銀靶設(shè)定功率為0.6千瓦，金靶的設(shè)定功率為0.75千瓦，鉻的行走速率為9000pps），如有異常，立刻檢查造成的原因；

5、根據(jù)鍍出石英振子的散差，調(diào)整遮擋板的各部尺寸；

6、濺鍍后的石英振子要用3M膠帶檢查其牢固度；

7、測(cè)試并記錄鍍好的石英振子主要指標(biāo)，如：頻率、電阻、DLD等；

8、將不良品挑出：電極錯(cuò)位、劃傷、臟污、掉銀等（工位上要有不良品示意圖）。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容，希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射鍍膜設(shè)備機(jī)的知識(shí)，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。