1.鍍鋅特點(diǎn)：鋅的優(yōu)點(diǎn)是在干燥的空氣中相對(duì)穩(wěn)定，不變色，在水或潮濕的環(huán)境中會(huì)與氧氣或二氧化碳反應(yīng)形成保護(hù)膜。此外，鍍鋅不僅成本低，而且易于加工，其標(biāo)準(zhǔn)電位相對(duì)較負(fù)。因此，鋅的促成對(duì)不銹鋼甚至許多金屬均為陽(yáng)極性鍍層。用途：一般用于大氣或其他相對(duì)較好的環(huán)境中，注意不要用作摩擦部件。鍍鎘特點(diǎn)：與海洋性強(qiáng)的大氣和70攝氏度以上的熱水環(huán)境相比，鎘涂層穩(wěn)定、耐腐蝕，具有良好的潤(rùn)滑性能。然而，應(yīng)該注意的是，當(dāng)鎘熔化時(shí)，有毒氣體會(huì)產(chǎn)生，而且鎘鹽也是有毒的。

PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來(lái)加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場(chǎng)控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應(yīng)濺射等

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強(qiáng)濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過(guò)程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來(lái)形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。

1.熱鍍純鋅鍍層(Z)hot‐dip zinc coating

熔融池金屬液體中的鋅含量應(yīng)不小于99%。

熱鍍純鋅工藝可以生成不同尺寸的鋅花，鋅花影響表面感官，但不影響耐蝕性。

鍍鋅厚度是怎么計(jì)算出來(lái)的呢？鋅的密度是7.14 g/cm^3，折算成鍍鋅厚度與每平米重量的關(guān)系為：1μm≈7.14g/m2，比如單面鋅量厚度是50 μm（微米），即單面鍍鋅重量為50×7.14=357 g/m^2。