純水處理設(shè)備:純水與超純水區(qū)別

純水處理設(shè)備:純水和超純水區(qū)別存在于很多方面，這里只列舉了其中的一些方面，現(xiàn)歸納如下：

^電導(dǎo)率不同，純水電導(dǎo)率在 2-10us/cm 之間，超純水的電導(dǎo)率為 0.056us/cm

^制造的難易程度不同，目前市場上使用的純水基本上都是經(jīng)過反滲透、蒸餾等方法制得，而超純水是純水的基礎(chǔ)上還要經(jīng)過

光氧化技術(shù)、精處置和拋光處理等一系列復(fù)雜的純化技術(shù)制得的

^重金屬、細(xì)菌、微粒數(shù)等指標(biāo)也大不相同，純水雜質(zhì)含量是 ppm 級，而超純水為 ppb 級，簡單地說超純水中已經(jīng)沒有什么雜質(zhì)，接近于理論上的水。

純水處理設(shè)備:純水指的是不含雜質(zhì)的H2O

純水處理設(shè)備:純水指的是不含雜質(zhì)的H2O。從學(xué)術(shù)角度講，純水又名高純水，是指化學(xué)純度極高的水，其主要應(yīng)用在生物、 化學(xué)化工、冶金、宇航、電力等領(lǐng)域，但其對水質(zhì)純度要求相當(dāng)高，所以一般應(yīng)用普遍的還是電子工業(yè)。例如電力系統(tǒng)所用的純水，要求各雜質(zhì)含量低達(dá)到“微克/升”級。在純水的制作中，水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的各項指標(biāo)應(yīng)該根據(jù)電子(微電子)元器件(或材料)的生產(chǎn)工藝而定(如普遍認(rèn)為造成電路性能破壞的顆粒物質(zhì)的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由于微電子技術(shù)的復(fù)雜性和影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素繁多，至今尚無一份由工藝試驗得到的適用于某種電路生產(chǎn)的完整的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。不過近年來電子級水標(biāo)準(zhǔn)也在不斷地修訂，而且高純水分析領(lǐng)域的許多突破和發(fā)展，新的儀器和新分析方法的不斷應(yīng)用都為制水工藝的發(fā)展創(chuàng)造了條件。

RO

RO-EDI超純水設(shè)備，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。

RO-EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：電廠化學(xué)水處理；電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水；食品、飲料、飲用水的制備；小型純水站，團(tuán)體飲用純水；精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水；其他行業(yè)所需的高純水制備；制藥工業(yè)工藝用水；海水、苦咸水的淡化等。

RO-EDI超純水設(shè)備常見工藝

1原水→預(yù)處理→反滲透→EDI裝置→緊密過濾→用水點

2預(yù)處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－稠濁床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強(qiáng)度形成微生物的滅活，從而達(dá)到消毒目標(biāo)的裝置)－精制

混床－緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

3預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)（ PH調(diào)節(jié)）－兩頭水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水

泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強(qiáng)度形成微生物的滅活,從而達(dá)到消毒目標(biāo)的裝置)－0.2或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

4預(yù)處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強(qiáng)度形成微生物的滅活,從而達(dá)到消毒目標(biāo)的裝置)－0.2

或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

5預(yù)處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強(qiáng)度形成微生物的滅活,從而達(dá)到消毒目標(biāo)的裝置)－精制混床－0.2或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點