潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。亂流潔凈室亂流潔凈室的主要特點是從來流到出流（從送風(fēng)口到回風(fēng)口）之間氣流的流通截面是變化的，潔凈室截面比送風(fēng)口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作區(qū)截面形成勻速氣流。對于硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35—45%。

賽達(dá)凈化堅持秉承以科技為先導(dǎo)、以市場為導(dǎo)向的科學(xué)管理理念，憑借規(guī)范化管理及專業(yè)的技術(shù)力量在食品、藥品、化妝品、微電子等諸多工業(yè)領(lǐng)域設(shè)計承建了潔凈SC廠房、GMP廠房、無菌室、實驗室及相關(guān)配套產(chǎn)品。我們的宗旨：專業(yè)！誠信！高效！

在潔凈室內(nèi)靜電導(dǎo)致的事故有以下幾方面：

1．靜電電引起的靜電，引起人的不安全和恐懼感，并可造成二次傷害(例如人因受而摔倒，由摔倒又致傷)；

2．靜電放電引起的放電電流，可導(dǎo)致諸如半導(dǎo)體元件等破壞和誤動作，例如將50塊P- MOS電路放在塑料袋內(nèi)，搖晃數(shù)次后，與非門柵極嚴(yán)重?fù)舸┱哂?9塊，失效率競達(dá)78%，這是因為半導(dǎo)體器件對靜電放電十分靈敏；

3．靜電放電產(chǎn)生的電磁波可導(dǎo)致電子儀器和裝置的雜音和誤動作；

4．靜電放電的發(fā)光可導(dǎo)致照相肢片等感光破壞；

5．靜電的力學(xué)現(xiàn)象可導(dǎo)致篩孔被粉塵堵塞，紡紗線紛亂，印刷品深淺不均和制品污染。

凈化工程是一個應(yīng)用行業(yè)非常廣泛的基礎(chǔ)性配套產(chǎn)業(yè)，（21世紀(jì)）在電子信息、半導(dǎo)體、光電子、精密制造、衛(wèi)生、生物工程、航天航空、汽車噴涂等眾多行業(yè)均有應(yīng)用，并根據(jù)行業(yè)的精密與無塵要求，等級差別也較大。

級別較高的當(dāng)屬航天航空的航空倉，基本是屬于1級，屬于特殊領(lǐng)域，面積相對較小。凈化車間另外對級別要求較高的是生化實驗室和高精納米材料生產(chǎn)車間，物聯(lián)網(wǎng)芯片的發(fā)展將是未來需求的一大方向。

隨著電子元器件向微小化方向發(fā)展，液晶面板已經(jīng)升級至第八代，行業(yè)需求非常巨大。

風(fēng)淋室是人員進(jìn)入潔凈無塵車間所必備的凈化設(shè)備，通用性強(qiáng)，可與所有的潔凈室和潔凈廠房配套使用，工作人員進(jìn)入車間時，必須通過此設(shè)備，用強(qiáng)勁潔凈的空氣，由可旋轉(zhuǎn)噴嘴從各個方向噴射至人身上，有效而迅速清除去附著在衣服上的灰塵、頭發(fā)、發(fā)屑等雜物，它可以減少人進(jìn)出潔凈室所帶來的污染問題。風(fēng)淋室的兩道門電子互鎖，可以兼起氣閘室的作用，阻止外界污染和未被凈化的空氣進(jìn)入潔凈區(qū)域。杜絕工作人員將頭發(fā)，灰塵、細(xì)菌帶入車間，達(dá)到工作場地嚴(yán)格的無塵凈化標(biāo)準(zhǔn)，生產(chǎn)出高質(zhì)量的產(chǎn)品。另外若系統(tǒng)停止運轉(zhuǎn)再啟動，欲達(dá)需求之潔凈度，往往須耗時相當(dāng)長一段時間。