烯烴類：

乙烯（C2H4）、（C3H6）、丙二烯（C3H4==）、1-丁烯（1-C4H8）、異丁烯（i-C4H8)、反-2-丁烯（t-2-C4H8）、順-2-丁烯（c-2-C4H8）、1.2-丁二烯（1.2-C4H6）、1.3-丁二烯（1.3-C4H6）、（C2H3Cl）等；在氧氣高爐中，由于在無氮環(huán)境下運(yùn)行，還原性氣體如CO和H2的濃度增加且廢氣氣體下降。

炔烴類：

乙炔（C2H2）、1-丁炔（1-C4H6）、2-丁炔（2-C4H6）、甲基乙炔（C3H4）、乙烯基乙炔（C4H4=≡）等；

其他：

二（C2H6O）、甲硫醇（CH4S）、熏蒸劑（C2H4O-CO2)等

為進(jìn)一步提高高純氧氣的內(nèi)外質(zhì)量，達(dá)到內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)，更好地適應(yīng)和滿足市場(chǎng)需要，為下一步真正達(dá)到和超過國(guó)標(biāo)要求創(chuàng)造條件，生產(chǎn)部籌劃、組織對(duì)高純氮、高純氬等高純氣體的生產(chǎn)成立高純氣生產(chǎn)小組，采取定崗、定人、專職、專瓶的控制措施，并對(duì)高純氣生產(chǎn)及管理制定了嚴(yán)格的規(guī)范，近一個(gè)月來進(jìn)行了人員培訓(xùn)、流程熟悉及試生產(chǎn)等工作，已逐步走上正規(guī)。對(duì)滿足客戶需求，提高企業(yè)信譽(yù)有了一個(gè)良好的開端。高純?nèi)瘜W(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，一般條件下在水與堿溶液中均不反應(yīng)（三校合編無機(jī)化學(xué)第四版下冊(cè)534頁），只有當(dāng)放電時(shí)在水中才發(fā)生NF3 2H2O==放電==HNO2 3HF。

高純乙炔法煤化工新工藝采用蓄熱式電l石生產(chǎn)新工藝，將煤炭中揮發(fā)分與固定碳進(jìn)行分質(zhì)梯級(jí)利用。其中，煤炭中的揮發(fā)分通過催化熱解產(chǎn)生人造、人造石油、合成氣；對(duì)于特種氣體的凈化，有精餾法、吸附精餾法、絡(luò)合法、水解法、預(yù)熱分解法、固體吸附法、激光純化法和樹脂凈化法等。煤炭中的固定碳在高溫下還原生石灰，生成電l石和一氧化碳，電l石再與水反應(yīng)生成乙炔。這些產(chǎn)品可同時(shí)發(fā)揮碳一化工、乙炔化工和石油化工各自的優(yōu)勢(shì)，形成3種化工工藝的有機(jī)結(jié)合。

該技術(shù)由公司自主研發(fā)，工藝l大特點(diǎn)是以廉價(jià)中低階粉煤、粉狀石灰作原料，可替代高階煤炭、蘭炭、焦炭、塊狀石灰等原料，能夠重塑能源生產(chǎn)與消費(fèi)體系，為推動(dòng)綠色低碳發(fā)展提供重要科技支撐。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。有的高純氮?dú)馍a(chǎn)裝置雖然采用的仍是低溫精餾流程，但摒棄了補(bǔ)償冷量的機(jī)械設(shè)備膨脹機(jī)，取而代之的是采用外部的液氮直接補(bǔ)償?shù)乃璧牡蜏睾俊?