公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶自行設計并提交，后續(xù)加工工藝由工程師完成。由于圖形數(shù)據(jù)準備是掩膜版加工中的關鍵步驟，要求用戶對所提交的版圖文件仔細核對，確保圖形正確性。以下將對用戶較為關心的版圖繪制問題作出具體說明  。

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會下降，pH值將越來越低，顯影時間應慢慢變長，至后在正常曝光條件下PS版無法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對氧化層和涂層樹脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。但必須注意兩點，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內；

光刻（英語：photolithography）是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。

集成電路（英語：integrated circuit，縮寫：IC；德語：integrierter Schaltkreis）、或稱微電路（microcircuit）、微芯片（microchip）、晶片/芯片（chip）在電子學中是一種把電路（主要包括半導體設備，也包括被動組件等）小型化的方式，并時常制造在半導體晶圓表面上。前述將電路制造在半導體芯片表面上的集成電路又稱薄膜（thin-film）集成電路。掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產的過程中把程序做進去。另有一種厚膜（thick-film）集成電路（hybrid integrated circuit）是由獨立半導體設備和被動組件，集成到襯底或線路板所構成的小型化電路。

光呆板業(yè)界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應膠。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構造，稱之為光刻掩模板。