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彩色鍍鋁膜批發(fā)優(yōu)選商家 華福包裝彩色鍍鋁膜

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發(fā)布時間:2020-11-14 04:49  








鍍鋁彩膜工藝流程

一般采用直鍍法,即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進行表面處理,可直接進行蒸鍍。如果紙張的表面較粗糙,要采用直接蒸鍍法,在鍍鋁前需先進行表面涂布。而BOPP和CPP、PE等非極性塑料薄膜,在蒸鍍前需對薄膜表面進行電暈處理或涂布黏合層,使其表面張力達到38-42達因/厘米或具有良好的粘合性。蒸鍍時,將卷筒薄膜置放于真空室內,關閉真空室抽真空。當真空度達到一定(4×10-4mba以上)時,將蒸發(fā)舟升溫至1300℃~1400℃,然后再把

純度為99.9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量,開通冷卻源,使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā),從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。


真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結構簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。鍍鋁膜具有比較好的金屬光澤和良好的反射性,給人一種富麗華貴的感覺,用它來包裝商品可以起到美化商品、提高商品檔次的作用。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數研究性實驗室中使用。

濺射技術與真空蒸發(fā)技術有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上,即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。(2)直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機,將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點。如任何物質均可以濺射,尤其是高熔點,低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。


鍍鋁膜遇水會氧化嗎

說的是不是油墨的附著力不好,鋁面應該是先上一層打底清漆的再印刷,這種鍍鋁膜保護清漆應該很多也很成熟。印在哪一面,膜只要電暈值夠了一般不會有問題。自建立以來和許多著l名企業(yè)合作,所生產的鍍鋁膜深受廣大需求群體的一致好評??梢栽阱冧X膜的鋁層涂一層酸試一下。涂覆酸之后,能有效保護鋁層,隔絕空氣,防止氧化。同時不會影響到鋁層的反射,從而保持光澤。

目前主要應用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。


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產品特點:具有閃閃發(fā)光的特性,具有阻燃的效果,使用范圍廣,靈活性好等等

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咸寧市華福包裝材料有限公司主要生產和經營高真空鍍鋁紙(啤酒標用鍍鋁紙、禮品包裝用鍍鋁紙和煙盒內襯用鍍鋁紙)、鐳射紙,雙向拉伸聚酯鍍鋁膜(VMPET),雙向拉伸聚酯彩色鍍鋁膜(COLORED VMBOPET),鍍鋁扭結膜以及鍍鋁無紡布等。


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