相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

現(xiàn)在國內(nèi)的相關(guān)企業(yè)很多，所以凈化工程企業(yè)之間的競爭也很激烈，因為科技的發(fā)展使得市場對凈化工程的要求高了起來，從以前的價格競爭變成了現(xiàn)在的價值競爭。所以相關(guān)的凈化工程企業(yè)應(yīng)該提高自身的自主研發(fā)能力，不斷的發(fā)展創(chuàng)新，才能適應(yīng)這個競爭激烈的市場?，F(xiàn)在我們國家的經(jīng)濟科技在發(fā)展，同時帶動了社會各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。

1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。