離子植入：其是用來控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進行摻雜技術(shù)。優(yōu)點在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機主要的供廠商為AMAT，中國部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場預(yù)計今明兩年中國離子植入機需求可達5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個個濺擊出來，使被濺擊出來的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國薄膜沉積設(shè)備龍頭，目前技術(shù)已達到14nm。市場預(yù)計今明兩年中國薄膜沉積設(shè)備需求可達15億美元與20億美元。    測試：在晶圓完成制造之前，會有一道晶圓中測工序。在測試過程中，會檢測每一個芯片的電路功能。

腐蝕是將金屬工件使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。

腐蝕技術(shù)可以分為『濕腐蝕』(wet etching)及『干腐蝕』(dry etching)兩類。

通常所指腐蝕也稱光化學(xué)腐蝕（photochemical etching），指通過貼不干膠；曝光制版、顯影后或絲印網(wǎng)版形成圖像轉(zhuǎn)移，將需腐蝕區(qū)域的保護油墨去除露出需要腐蝕的地方，在腐蝕時金屬接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

最早可用來制造銅版、鋅版、不銹鋼等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，廣告牌標牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工；經(jīng)過不斷的技術(shù)改良和工藝設(shè)備發(fā)展，也可以用于航空、機械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密腐蝕產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，腐蝕更是不可或缺的技術(shù)。

比如不銹鋼過濾網(wǎng)片，圓孔均為采用鏤空腐蝕工藝成型。

工藝流程：清潔工件去油污(不銹鋼或其他金屬工件)--- 涂布---烤干---曝光--- 顯影--蝕刻—退膜

金屬腐蝕機主要以單面平板金屬表面蝕刻為主、廣泛用于標識標牌行業(yè)，各種金屬表面文字圖案、五金配件單面蝕刻。我們藍光同茂的蝕刻機可以成套組成流水線，亦可以單機獨立完成工序，是標牌廠、電鍍廠、銘牌廠等生產(chǎn)高精度高品位標牌、獎牌禮飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精密加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備。    蝕刻機、金屬蝕刻機、金屬腐蝕機機身采用耐高溫抗腐蝕的PP板材，擁有普通噴淋蝕刻機所有優(yōu)點，還加入了噴淋搖擺結(jié)構(gòu)，使噴淋蝕刻結(jié)構(gòu)更加趨于完善、合理，噴淋均勻、壓力強，是針對精密鏤空、切割和厚板鏤空切割所設(shè)計。對于小型精密零件采用一米區(qū)域蝕刻機、兩米蝕刻區(qū)域精密搖擺型蝕刻機，對于眼鏡框等0.5mm以上厚板切割零件采用高速四米區(qū)域搖擺型蝕刻機。