公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜板是光刻圖形的基準和藍本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產(chǎn)生嚴重的影響。所以掩膜板必須保持“完關(guān)”。

使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子.上需要連一根導(dǎo)線到金屬桌面，將產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開的情況下，不準進出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板時室內(nèi)保持2人。

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。光掩膜是刻有微電路的版，由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成，蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計的微電圖?；逋ǔＪ歉呒兌?，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

1） 繪制生成設(shè)備可以識別的掩膜版版圖文件（GDS格式）2） 使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)3） 經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層4） 使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。石英玻璃（QuartzGlass）蘇打玻璃（Soda-limeGlass）低膨脹玻璃（LowExpansionGlass）2、透明樹脂遮光膜（1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。

光呆板業(yè)界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應(yīng)膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應(yīng)膠。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學(xué)反應(yīng)原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構(gòu)造，稱之為光刻掩模板。