真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統水電鍍技術流程雜亂、環(huán)境污染大、設備成本高、對作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來產品外觀損壞大，產品穩(wěn)定性差?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對基片、真空室內各部件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。而高真空離子鍍它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，也就是我們俗稱的真空鍍膜。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。目前，已趨成熟并能迅速實現工業(yè)化的鋼帶真空鍍膜技術是電子束鋼帶真空鍍膜。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。