射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負(fù)電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

直流二級離子鍍，是穩(wěn)定的輝光放電；空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產(chǎn)生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導(dǎo)致核外電子的熱發(fā)射；陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同，它采用的是冷弧光放電。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。在眾多離子鍍膜技術(shù)中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者，其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。

目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。2磁控濺射陰極結(jié)構(gòu):目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規(guī)格:VT機(jī):長×寬×厚(450。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進(jìn)行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。裝飾鍍的目的：主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤，同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個領(lǐng)域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。

PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點

其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

其優(yōu)點是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果極佳，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。

傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。