金屬表面處理PVD鍍鈦種類：氮化鈦(TiN),鍍鉻(CrN), ROSE,氮鋁鈦(TiAlN),高鋁鈦(AlTiN), PLUS,氮碳化鈦(TiCN),氮碳化鉻(CrCN)等各種超硬膜層，其涂層厚度可達(dá)到0.5～5um，故而您不用擔(dān)心會(huì)給尺寸帶來麻煩，并以工藝使產(chǎn)品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產(chǎn)成本。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

整卷鍍色的優(yōu)勢(shì)：

1色差小整卷材質(zhì)、表面狀態(tài)均一致，整卷顏色一致。2交貨時(shí)間短大幅提高資金周轉(zhuǎn)率，降低資金占?jí)骸２讳P鋼彩色卷板發(fā)貨，在當(dāng)?shù)亟訂纹桨?，?shí)現(xiàn)不銹鋼彩色板材不定尺上午下單下午交貨。為客戶創(chuàng)造價(jià)值。3價(jià)格低自動(dòng)化生產(chǎn)大幅降低人工支出，生產(chǎn)效率大幅提升，具有平板鍍鈦的價(jià)格優(yōu)勢(shì)。4，低成本實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)，大幅提高工作效率，降低人力成本。在二十世紀(jì)七十年代末，人類就已經(jīng)開始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢悺?

蒸發(fā)鍍膜

真空條件下，將鍍料加熱蒸發(fā)或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據(jù)加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。

采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。