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發(fā)布時(shí)間:2021-10-18 02:03  









蝕刻雙色表面有的產(chǎn)品受形狀的限制不能進(jìn)行全亮面加工圖案的的耐磨性比較低,他的附著性的降低會(huì)影響到整個(gè)產(chǎn)品的使用效果和工件的壽命。鍍鈦技術(shù)制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。那么工件在鍍鈦前其表面需要達(dá)到什么要求呢?.涂層前,供給工件需求涂層區(qū)域和涂層方位的示意圖或許圖紙(包含哪些方位必須涂層,哪些方位不能涂層,哪些方位無(wú)所謂)。工件外表有必要是光亮而且未經(jīng)外表改性處理的(如化學(xué)電鍍、氮化、發(fā)黑、TD或許CVD等)


離子電流幾乎與氣體流量成正比

簡(jiǎn)單耐用。離子電流幾乎與氣體流量成正比,可以獲得更大的離子電流。鎢絲一般穿過(guò)出口,受到離子束的沖擊會(huì)很快被腐蝕,特別是對(duì)于反應(yīng)性氣體,通常需要十幾個(gè)小時(shí)才能更換。而且鎢絲也會(huì)有一定的污染。解決鎢絲的缺點(diǎn)。有壽命長(zhǎng)的中和劑,如小型空心陰極源?;魻栯x子源是應(yīng)用的離子源。離子源,如Veece的MarkI和MarkII。適合大部分國(guó)產(chǎn)離子源。


PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)

PVD是一種物理氣相沉積法,它分為:真空蒸發(fā)法、真空濺射法和真空離子法。PVD鍍膜通常指的是真空離子鍍膜;NCVM鍍膜通常指的是真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜。真空鍍的基本原理:在真空條件下,金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā),然后沉積到基體表面,蒸發(fā)法通常采用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使其蒸發(fā)成氣相,然后沉積到基體表面,PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)。


PVD真空鍍膜適用范圍

PVD真空鍍膜適用范圍廣泛用于電子產(chǎn)品,門窗五金,廚衛(wèi)五金,燈具,海洋用品,珠寶飾品,工藝品,以及其他裝飾品的加工制造。PVD在日用五金領(lǐng)域已經(jīng)相當(dāng)普及,許多的五金制造商已經(jīng)開(kāi)始研發(fā)PVD產(chǎn)品并開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)。豐富的色彩使PVD極易搭配,的抗惡劣環(huán)境,以及易清潔,的特性使它深受消費(fèi)者的喜愛(ài)。尤其銅色系列涂層,在世界范圍內(nèi)被廣泛采用,用于替代銅和電鍍銅制品。


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