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日本特種光源、照明器具、電源裝置
NOWDATAナウデータ株式會(huì)社
SXDN-150E
對(duì)應(yīng)于JIS標(biāo)準(zhǔn)級(jí),有效照射區(qū)域60個(gè)×60倍的·高功能非平行光類型
是小型、輕量太陽(yáng)能模擬器。
電源規(guī)格:
電源輸入AC 100~120V、AC 200~240 V(開關(guān)切換式)單相
電源頻率50 / 60Hz
輸入消耗功率350VA
油燈功率160W Max .
燈電流設(shè)定范圍DC 4~8A(di設(shè)定0.1A)
光學(xué)規(guī)格:
適合太陽(yáng)電池的晶體、灰燼型、有機(jī)型?色素增感型等
使用燈高的基層電弧燈
壽命平均1500小時(shí)(不是保證期間)
有效照射區(qū)域60倍×60
輻射強(qiáng)度500~1500 W /?。ㄔ谟行Ч丈鋮^(qū)域內(nèi))
輻射波長(zhǎng)400~1100 nm(JIS C 8912)
350~750nm(JIS C 8933)
波長(zhǎng)一致度0、75~1.25(在有效照射區(qū)域內(nèi))
均均勻度±2%以內(nèi)(在有效照射區(qū)域內(nèi))
時(shí)間為3% / h Max .
燈短時(shí)間穩(wěn)性±3%以內(nèi)」(點(diǎn)燈30分鐘點(diǎn)后)
da入射角度15°以內(nèi)
中心胸角(片角)9°以內(nèi)
照射距離138±10
進(jìn)口KyotoDenkiki京都電機(jī)器、UV光源
大功率LED,體積小,發(fā)光強(qiáng)度高;光纖鹵素?zé)舻奶娲?,尤其適合作為鏡頭的同軸光源等;散熱裝置,大大提高光源的使用壽命。應(yīng)用領(lǐng)域:適合遠(yuǎn)心鏡頭使用,用于芯片檢測(cè),Mark點(diǎn)定位,晶片及液晶玻璃底基校正。
聚光照明PLS2-24*、PLS3-24*、PLSF-25*
光導(dǎo)纖維照明LFM-15W
UV照射裝置LUVT-17-365、LUVT-25-365、LUVT-17-385、LUVT-25-385
UV照明KDUV-L110、KDUV-L190、KDUV-L300
IR(紅外)照明 KDDR2-90/50-IR850S80
UV照明 KDDB2-50/11-UV385
電阻盒子RBOX2740-01-1W27、RBOX2740-01-3W13
?超高亮度LED點(diǎn)光源裝置U-TECHNOLO光源裝置鹵素?zé)?價(jià)格
超高亮度LED點(diǎn)光源裝置鹵素?zé)?價(jià)格
UFLS-75-0xW-P,UFLS-75-02W-P,UFLS-75-03W-P
將微觀的缺陷擴(kuò)大到宏缺陷,提高檢查精度。
實(shí)現(xiàn)了從傳統(tǒng)的燈光源到新的時(shí)代。世界首長(zhǎng)壽命、業(yè)界的LED點(diǎn)光源。
開發(fā)自己的亮度放大光學(xué)系統(tǒng)。
本公司實(shí)現(xiàn)了高亮度LED光源(UFS-7-8W)的2.5倍的超高亮度。
用LED逼近基塞農(nóng)光源的200Mcd / m的超高亮度。
使用獨(dú)自開發(fā)的亮度放大光學(xué)系統(tǒng)
擴(kuò)大透明膠片和玻璃的缺陷,投影到夏普公司
用LED方式實(shí)現(xiàn)節(jié)能和環(huán)保
照相機(jī)三腳掛載可以固定
準(zhǔn)備3種發(fā)光直徑(Φ1、Φ2、Φ3)
?正軸照明U-TECHNOLOGY照明裝置鹵素?zé)?價(jià)格
正軸照明
USCOM系列
USCO-18R18,USCO-18W18,USCO-18B18-2,USCO-31R28,USCO-31W28,USCO-31B28-2,USCO-50R50,USCO-50W50USCO-,USCO-75R72,USCO-75W72,USCO-75B72-2,USCO-100R100,USCO-100W100,USCO-100B100,USCO-130R130,USCO-130W130,USCO-130B130
是表面平面的均勻照射的照明。
使用光控制。
直下式透射照明
UDB-30R30,UDB-30W30,UDB-30B30-2,UDB-60R60,UDB-60W60,UDB-60B60-2,UDB-90R90,UDB-90W90,UDB-90B90-2,UDB-220R100,UDB-220W100,UDB-220B100
UD系列
是面向透射檢查的照明。
在直下配置LED元件,可以得到高亮度的面發(fā)光。
多功能燈
UDR-30W90-8CH,ULR-68W110-8C
圖像處理用8 SEGAMEMHT
去除對(duì)象物的旁白(表面反射)
從全方向的照射中消失的微細(xì)的傷痕的檢測(cè)
使用例
照明條件難的細(xì)微的傷的檢測(cè)
使用容易產(chǎn)生的對(duì)象的表面反射