【廣告】
實際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準;線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。
曝光時必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;
顯影時,顯影點控制在50 --70%以內(nèi),壓力1.5--2.0kg/cm2。
曝光過度會導致顯影不凈;曝光能量不足會導致顯影過度。
負膠:曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián),難溶于顯影液。特性:良好的粘附能力、良好的阻擋作用、感光速度快;顯影時發(fā)生變形和膨脹,所以只能用于2μm的分辨率。
正膠:正性光刻膠的曝光區(qū)域更加容易溶解于顯影液。特性:分辨率高、臺階覆蓋好、對比度好;粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
目前一般都是用正膠,對于線寬要求不高的時候或者一些特殊的用途(比如PSS等)可以選擇負膠
在印刷、影印、復印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現(xiàn)的一個過程。通常指在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。
1、蝕刻:利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。
2、曝光:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上。
3、顯影:通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應之感光材料部分沖掉。