專利維權(quán)

　　未經(jīng)專利權(quán)人許可，實施其專利，即是侵犯其專利權(quán)，專利權(quán)人可以通過協(xié)商、請求管理專利工作的部門處理、向人民法i院起訴三種方式維權(quán)。

??管理專利工作的部門處理時，認定侵權(quán)行為成立的，可以責令侵權(quán)人 立即停止侵權(quán)行為，當事人不服的，可以自收到處理通知之日起十五日內(nèi)依照《中華人民共 和國行政訴訟法》向人民法i院起訴;

??侵權(quán)人期滿不起訴又不停止侵權(quán)行為的，管理專利工作的部門可以申請人民法i院強制執(zhí)行。進行處理的管理專利工作的部門應當事人的請求，可以就侵犯專利權(quán)的賠償數(shù)額進行調(diào)解;調(diào)解不成的，當事人可以依照《中華人民共和國民事訴訟法》向人民法i院起訴。

專利檢索的途徑

簡介：軟件檢索通常包括縮微膠片式、計算機磁介質(zhì)及光盤專利文獻檢索。微縮膠片式專利文獻由于所占空間小，存儲密度高、保存壽命長、易于復制等優(yōu)點得到了很快的發(fā)展。

　　專利檢索的途徑有三種紙件檢索、軟件檢索和網(wǎng)上檢索。

　　在計算機還沒有普遍應用到信息檢索領(lǐng)域之前，在網(wǎng)絡化還沒有為信息共享實現(xiàn)最i大化提供可能之前，專利檢索主要的途徑是紙件檢索和軟件檢索。

　　紙件載體是主要的專利文獻形式，也是檢索的主要對象， 紙件檢索所查資料一般最不容易出錯，最i具有證據(jù)效力，但其在專利檢索過程中效率低，費時費力，容易散失損壞，而且由于印刷發(fā)行周期長，最i新的資料檢索比較困難。

　　軟件檢索通常包括縮微膠片式、計算機磁介質(zhì)及光盤專利文獻檢索。微縮膠片式專利文獻由于所占空間小，存儲密度高、保存壽命長、易于復制等優(yōu)點得到了很快的發(fā)展。成為儲藏專利全文的主要手段之一，磁介質(zhì)主要包括磁帶和磁盤,具有存儲密度高、體積小、裝卸自由、可長期保存等優(yōu)點,因而被廣泛應用。當數(shù)字存儲技術(shù)將光盤帶入文獻收藏領(lǐng)域后，各種形式的專利數(shù)據(jù)庫光盤應運而生。光盤作為一種新出現(xiàn)的介質(zhì)，被稱為"未來的專利文獻載體"。隨著計算機技術(shù)的發(fā)展和普及, 光盤數(shù)據(jù)庫在專利檢索及專利全文的獲取中發(fā)揮了重要的作用。 光盤檢索雖然較快, 但是光盤檢索的有限共享性限制了其使用范圍，而且更新的速度也有一定的限制。

　　隨著網(wǎng)絡技術(shù)的發(fā)展，網(wǎng)上專利資源以其無可比擬的數(shù)據(jù)優(yōu)勢及檢索方便快捷、不受時空限制等特點受到用戶的青睞，成為專利檢索的主要方式。網(wǎng)上專利檢索已逐步發(fā)展并成熟起來，現(xiàn)如今網(wǎng)上專利檢索將成為最主要且最快捷的檢索方式。網(wǎng)上檢索,速度快、內(nèi)容新、但不具有法律效力，如要作為證據(jù)使用，需要有關(guān)部門出示相應的證明，或通過法定認可的部門檢索后下i載并予以證明才具有法律效力。

實用新型專利與發(fā)明專利的區(qū)別

簡介：授予專利權(quán)后，專利權(quán)人每年要繳納專利年費，逾期后有六個月的滯納期，仍可繳納年費，但要繳滯納金。在專利年費滯納期滿仍未繳納或者繳足本年度年費和滯納金的，專利權(quán)自上一年度期滿之日起終止。

　　實用新型與發(fā)明的不同之處在于：第1，實用新型只限于具有一定形狀的產(chǎn)品，不能是一種方法，也不能是沒有固定形狀的產(chǎn)品;第二，對實用新型的創(chuàng)造性要求不太高，而實用性較強。

　　產(chǎn)品的形狀是指產(chǎn)品所具有的、可以從外部觀察到的確定的空間形狀。對產(chǎn)品形狀所提出的技術(shù)方案可以是對產(chǎn)品的三維形態(tài)的空間外形所提出的技術(shù)方案，例如對凸輪形狀、刀具形狀作出的改進;也可以是對產(chǎn)品的二維形態(tài)所提出的技術(shù)方案，例如對型材的斷面形狀的改進。

　　產(chǎn)品的構(gòu)造是指產(chǎn)品的各個組成部分的安排、組織和相互關(guān)系。產(chǎn)品的構(gòu)造可以是機械構(gòu)造，也可以是線路構(gòu)造。機械構(gòu)造是指構(gòu)成產(chǎn)品的零部件的相對位置關(guān)系、聯(lián)接關(guān)系和必要的機械配合關(guān)系等，線路構(gòu)造是指構(gòu)成產(chǎn)品的元器件之間的確定的連接關(guān)系。

　　復合層可以認為是產(chǎn)品的構(gòu)造，產(chǎn)品的滲碳層、氧化層等屬于復合層結(jié)構(gòu)。

　　注意事項和相關(guān)說明

　　1、申請人接到授權(quán)通知書和辦理登記手續(xù)通知書以后，應當在規(guī)定的時間內(nèi)按照通知的要求辦理登記手續(xù)并繳納規(guī)定的費用。未按規(guī)定辦理登記手續(xù)的，或者逾期辦理的，視為放棄取得專利的權(quán)利。

　　2、授予專利權(quán)后，專利權(quán)人每年要繳納專利年費，逾期后有六個月的滯納期，仍可繳納年費，但要繳滯納金。在專利年費滯納期滿仍未繳納或者繳足本年度年費和滯納金的，專利權(quán)自上一年度期滿之日起終止。

　　3、申請人可以采用不繳納費用或不答復專利局文件的方式放棄專利申請權(quán)或?qū)＠麢?quán)。

　　4、在專利申請過程中或?qū)＠鷾屎?，隨時可以辦理轉(zhuǎn)讓手續(xù)。