公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等產(chǎn)品的發(fā)展趨勢密切相關(guān)，預計未來幾年我國光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。③烤版溫度不能過高，溫度過高也會導致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹脂層焦化，影響耐印力。

光刻是制造半導體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會被到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。

通過金屬化過程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。光學掩模板的應(yīng)用光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。

色彩：物體的色彩來源于光。自然界中絕大部分物體本身是不發(fā)光的，如印刷品、花草、樹木。光刻機的結(jié)構(gòu)和工作原理：光刻機的光源有：激光，紫外光、深紫外光、極紫外光。它們的顏色是來自對太陽光譜的色光加以反射或透射而產(chǎn)生的。自然界中光的三原色是紅、綠、蘭，這三種色光不同的組合可組成無數(shù)種色光；色料的三原色是青、品紅和黃，理論上，此三色顏料不同比例的混合，可得到自然界中1切顏色。