鋼研納克國產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS 300

 優(yōu)勢1——的四極桿電源驅(qū)動技術(shù)

DDS變頻技術(shù)

自動頻率匹配調(diào)諧，無需手動調(diào)電容，更安全

沒有機(jī)械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動，無需經(jīng)常校準(zhǔn)質(zhì)量軸

：《 一種用于四級桿質(zhì)譜儀的射頻電源》201610006009.2

PlasmaMS 300 優(yōu)勢2——的真空控制系統(tǒng)

先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，儀器待機(jī)功耗極低

解決高真空腔體被機(jī)械泵油氣污染問題，保證儀器長時間性能穩(wěn)定

受保護(hù)《一種電磁閥緩沖、無返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7

樣品消解方法及消解體系的選擇

化妝品中元素測定的前處理方法主要有干灰化法、浸提法、濕式回流消解法、濕式消解法和微波消解法。干 灰化法、濕式回流消解法操作復(fù)雜，浸提法只對樣品進(jìn)行提取，可能造成結(jié)果偏低。微波消解法和濕式消解法是

實驗室常規(guī)前處理方法，微波消解法在處理口紅、睫毛膏等蠟基類樣品時，消解不充分，還容易發(fā)生爆罐等危險 情況。因此，在處理蠟基樣品時選用濕法消解方式，并加入加強(qiáng)消解效果，既減小了實驗的危險性，又增

加了反應(yīng)強(qiáng)度。對消解體系考察試驗中，發(fā)現(xiàn)和-體系可使大部分種類化妝品消化完全，但 能縮短消化時間.有些樣品與反應(yīng)劇烈，易使樣品濺出，因此用量不宜過大。對于部分含高嶺土， 二氧化鈦等的化妝品，消解不完全，可加入少量使樣品消化至澄清，但測定時由于的強(qiáng)腐蝕性，可

對儀器的、矩管等產(chǎn)生損害，因此不建議添加，可在消解后過濾測定，并不影響檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性。通過 采用微波消解和濕法消解兩種前處理方式對樣品結(jié)果測定，配對t檢驗法分析測試結(jié)果，兩種前處理方式無顯著性 差異（p > 0.05 ）。

同位素及內(nèi)標(biāo)元素的選擇

選擇干擾小且豐度高的同位素。在ICP-MS分析過程中，分析信號會隨時間而發(fā)生漂移，而且化妝品樣品在分

析時的基體效應(yīng)明顯，被測物信號會出現(xiàn)抑制或增應(yīng)，使用內(nèi)標(biāo)元素，可以有效補(bǔ)償信號漂移和基體效應(yīng)。 內(nèi)標(biāo)元素應(yīng)選擇和目標(biāo)元素性質(zhì)相近、待側(cè)試樣不含有且不會對目標(biāo)元素測定產(chǎn)生干擾的元素，常用的內(nèi)標(biāo)元素

為自然界中很少存在的元素，如：銃、釔、銠、錮、錸等，在化妝品樣品測試過程中，發(fā)現(xiàn)樣品中經(jīng)常含有銃、 釔等元素，因此選用銠、錸為內(nèi)標(biāo)元素。在內(nèi)標(biāo)液配置過程中，可加入適量（濃度小于5%）等， 起基體匹配的作用，使待測結(jié)果更準(zhǔn)確。各待測同位素的選擇，分子離子的干擾情況和內(nèi)標(biāo)元素的選擇見表2。

本文建立的電感耦合等離子體質(zhì)譜法能滿足化妝品中37種元素定量檢測的各項技術(shù)要求，實驗結(jié)果表明：方法具有簡便、準(zhǔn)確、快速的特點，具有良好的精密度和回收率，適合于化妝品中多元素的同時測定。

 

ICP-MS的前處理方法包括

1、稀釋和溶解：適合直接溶解的液體或固體樣品

2、普通酸溶消溶：可以溶解于無機(jī)酸獲有機(jī)酸的固體樣品，部分金屬和非金屬固體樣品

3、微波消解：難溶的土壤、合金、礦石等樣品

4、密閉悶罐消解1：密閉環(huán)境，高壓消解，普通酸溶無法完全消解樣品可以嘗試該方法

5、熔融：采用熔劑高溫狀態(tài)下熔融，一般地質(zhì)礦樣使用該方法居多

6、基體分離：色譜、離心、電熱蒸發(fā)等