多弧離子PVD鍍膜設(shè)備　　

腔體結(jié)構(gòu)：  立式前開門，臥式前開門，后置真空獲得系統(tǒng)　　

材質(zhì)用料：  腔體采用SUS304不銹鋼材質(zhì)　　

離子弧源：  依據(jù)設(shè)備大小不同配備多套弧電源系統(tǒng)　　

偏壓電源：  配備大功率單級(jí)脈沖偏壓電源　　

多弧靶材：  標(biāo)配多套鈦靶或不銹鋼靶材　　

轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)： 變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結(jié)合，可采用上傳動(dòng)或下傳動(dòng)方式　　

真空系統(tǒng)（裝飾鍍膜設(shè)備Decorative coating）：擴(kuò)散泵（可選分子泵） 羅茨泵 機(jī)械泵 維持泵 深冷系統(tǒng)（可選）

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術(shù)，它是利用物質(zhì)在氣相中產(chǎn)生的物理或(及)化學(xué)反應(yīng)而在產(chǎn)品表面沉積單層或多層的、單質(zhì)或化合物的膜層，從而使產(chǎn)品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運(yùn)->沉積。它的主要特點(diǎn)在于不管原來(lái)需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運(yùn)時(shí)都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進(jìn)行遷移，終到達(dá)工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

CVD 制備銥高溫涂層人們之所以對(duì)作涂層材料感興趣是由于這類金屬優(yōu)良的性能 。銥具有較強(qiáng)的能力和較高的熔點(diǎn)而受到重視, 是一種較理想的高溫涂層材料 。

20 世紀(jì) 60 年代以來(lái), 世界航空航天技術(shù)飛速發(fā)展,一些高熔點(diǎn)材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,但這些材料的一個(gè)共同的致命缺點(diǎn)是能力差。

60 年代美國(guó)材料實(shí)驗(yàn)室(AFML)對(duì)石墨碳的銥保護(hù)涂層進(jìn)行過(guò)大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,其中包括化學(xué)氣相沉積法 。雖然沒(méi)有制備出質(zhì)量令人滿意的厚銥涂層, 但仍認(rèn)為 CVD 是一種非常有希望且值得進(jìn)一步研究的方法。