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北京AR鍍膜設(shè)備廠家直供“本信息長期有效”

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-11 14:32  









電子束蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)在于:


電子束的光斑可以隨意調(diào)整,可以一槍多用,燈絲可以隱藏,避免污染,可以蒸發(fā)任意鍍膜材料,維修方便,蒸發(fā)速度可以隨意控制,材料分解小,膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面,通過動能傳輸,令靶材的分子(原子)有足夠的能量從靶材表面逸出,在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng),薄膜的純度高,可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料,但是對靶材的要求高,不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運(yùn)用多的有磁控濺射,磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場,將電子約束在陰極靶材表面附近,提高電離效率。它是操作簡單的一種,所以運(yùn)用非常廣。



真空鍍膜機(jī)真空的清洗方法,你知道嗎?


真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

一.真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下,為了得到原子級清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時(shí),這種處理方法也會產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒,并同時(shí)分解成碳渣


二.紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加.



真空鍍膜機(jī)使用前的準(zhǔn)備工作


在使用真空鍍膜機(jī)前,必須詳閱使用說明書,熟悉整機(jī)結(jié)構(gòu)原理,各部件的作用和操作方法。

1、確認(rèn)水、電、氣均已安裝無誤后,先試運(yùn)行滑閥泵、羅茨泵,其轉(zhuǎn)動方向要與各泵規(guī)定的方向一致。

2、檢查設(shè)備的各個動力傳動裝置運(yùn)轉(zhuǎn)是否正常。

3、檢查卷繞車的開動情況,檢查卷繞車與真空罐對接的密封是否可靠,檢查裝于導(dǎo)軌上的各個行程開關(guān)是否工作正常,檢查履帶的安放及定位情況是否完好。

4、按照從低真空到高真空的次序,逐級調(diào)試真空系統(tǒng),檢查各個環(huán)節(jié)的密封是否可靠,各個閥門開閉是否靈活,霍爾開關(guān)位置是否正確,各真空泵均應(yīng)運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)、無異常振動、無異常噪音。



磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高? 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過程中,經(jīng)過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候,會產(chǎn)生電子發(fā)射,而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開始向陽極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū),和中性氣體原子進(jìn)行碰撞,產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大,隨著氣壓的增大而減小,特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生,它們的熱壁損失也是非常大的,這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi),能夠有效的增加氣體原子的梨花效率,從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。


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