?高速鍍硬鉻的工藝詳解

高速鍍硬鉻，蕞適合于鍍硬鉻，微裂紋鉻，也可用于光亮鉻等。應(yīng)用該添加劑及其工藝，質(zhì)量好、工藝穩(wěn)定、生產(chǎn)效率髙、節(jié)約電能、經(jīng)濟(jì)效益顯著。該工藝已在國內(nèi)幾十家大中型企業(yè)使用，涉及紡機(jī)、活塞環(huán)、彩印制版、鋼鐵工業(yè)、產(chǎn)品、日用五金、減震器等方面，取得極佳效果，產(chǎn)品達(dá)水平，是普通鍍硬鉻產(chǎn)品的蕞佳替代品。

工藝特點(diǎn)：

1、陰極電流效率髙，可達(dá)20-30%，節(jié)約電能。

2、不含氟、無稀土、無陰極低電流密度區(qū)腐蝕。

3、覆蓋能力強(qiáng)，鍍層均勻。

4、鍍層平滑、細(xì)致，十分光亮。

5、鍍層硬度， 950-1100 HV。

6、微裂紋數(shù)提高。

7、微裂紋數(shù)，在1000條/厘米,有較高的抗蝕性，有了上述特性，鍍層耐磨性能有顯著提高。

8、沉積速度3-114μm/h。

9、鍍液穩(wěn)定，易操作，易維護(hù)。

10、 鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)。

11、 有較高的抗蝕性。

離子色譜法測定硬鉻鍍液中催化劑含量

鉻酸酐具有強(qiáng)氧化性，使用陰離子交換分離-抑制電導(dǎo)檢測可能對色譜柱造成不可逆的損壞，樣品不能直接進(jìn)樣。鉻酸酐溶于水后生成CrO42-, CrO42-干擾測定，為消除干擾，為消除CrO42-干擾，需要選用合適的還原性物質(zhì)將CrO42-還原為Cr3 ，以沉淀的方式除去，且不帶入雜質(zhì)離子，影響待測離子的測定，保證還原和沉淀迅速，前處理過后取上清液過H柱、濾膜，離子色譜儀進(jìn)樣分析。

不銹鋼鍍鉻的前處理?

不銹鋼表面想要獲得牢固的鍍硬鉻層質(zhì)量，首先要徹底除盡表面的氧化膜，這層結(jié)合牢固且致密的氧化膜較難除去，且工藝繁雜。??

經(jīng)友人介紹采取下列預(yù)處理的工藝方法即能獲得滿意的.鉻層質(zhì)量，多年來的生產(chǎn)質(zhì)量一直很好，也未曾發(fā)生過起皮脫殼等質(zhì)量故障，試驗(yàn)也很方便，直接在鍍鉻溶液中即可試驗(yàn)。??

已經(jīng)除盡油污的工件掛入鍍鉻槽的陰極杠上，以5～6A/dm2的低電流密度進(jìn)行活化處理，這時(shí)不銹鋼表面不會(huì)沉上鉻，只有氫原子析出，這些氫原子與不銹鋼表面的氧化膜作用，使其表面獲得充分活化，活化處理時(shí)間需視不銹鋼表面的膜層情況而定，一般在5min左右即可，膜層過厚的需8～10min，然后施以正常的電流進(jìn)行鍍鉻，不要反鍍，否則不利于鍍鉻層的結(jié)合強(qiáng)度。