直流二級離子鍍，是穩(wěn)定的輝光放電；PVD技術四個工藝步驟(1)清洗工件：接通直流電源，氣進行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出?？招年帢O離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產(chǎn)生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導致核外電子的熱發(fā)射；陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同，它采用的是冷弧光放電。在眾多離子鍍膜技術中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者，其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領域的主力。

此外，多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定，尤其是在做 TiN 涂層時，每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的 DC 電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm 時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。雖然使用PVD鍍膜技術能夠鍍出高品質(zhì)的膜層，但是PVD鍍膜過程的成本其實并不高，它是一種性價比非常高的表面處理方式，所以近年來PVD鍍膜技術發(fā)展得非?？臁６嗷″兞硪粋€不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。

PVD加工特點

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；其缺點是：1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高。