淺析磁控濺射鍍膜儀鍍膜優(yōu)勢

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我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異，這處理根據(jù)鍍膜的方式不同之外，還跟所鍍的材料有關系，這種差別我們很難看出來，因為根據(jù)目前的鍍膜行業(yè)中的一些gao端設備，比如說磁控濺射鍍膜儀，都是屬于比較精細的一種鍍膜機械。

那么在現(xiàn)今的發(fā)達科技中，磁控濺射鍍膜儀鍍膜有哪些優(yōu)勢呢？下面小編來深入的分析一下：

磁控濺射鍍膜設備所鍍的膜穩(wěn)定性好，這是因為其膜不僅厚，而且所生成的時候非常穩(wěn)定，另外還根據(jù)濺射電流來控制。我們知道電流越大，這種設備的濺射率也就相對的變大，這也是磁控濺射鍍膜設備非常穩(wěn)定的一個因素。

另外采用磁控濺射鍍膜設備來生成膜層，不管鍍多少次膜，他所鍍出來的膜厚度基本上是一樣的，而且非常穩(wěn)定。

從上述淺析中，我們不難發(fā)現(xiàn)磁控濺射鍍膜設備的優(yōu)勢，其實就是在于穩(wěn)定，這也是目前一些精細產(chǎn)品鍍膜選擇這種設備的原因。

濺射原理

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容，創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜設備機，歡迎新老客戶蒞臨。

1.1 濺射定義

就像往平靜的湖水里投入石子會濺起水花一樣，用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子（或分子）從固體表面逸出，這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。

1.2 濺射的基本原理

濺射是指具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面使其中的原子發(fā)射出來。早期人們認為這一現(xiàn)象源于靶材的局部加熱。但是不久人們發(fā)現(xiàn)濺射與蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，并逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結(jié)果。

磁控濺射鍍膜機的優(yōu)勢

1.實用性：設備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機多用；

2.方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔；

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磁控濺射法的優(yōu)勢

目前常用的制備CoPt 磁性薄膜的方法是磁控濺射法。磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣，在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使ya氣發(fā)生電離。烘烤的目的是徹底清除基片表面殘余的水份,并使基片加熱到一定的溫度,很多材質(zhì)在較高的基片溫度下可以增強結(jié)合力和膜層的致密性。ya離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。

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