電鍍電鍍過程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì)遷移到陰極并轉(zhuǎn)化成金屬原子結(jié)晶到磁體表面。燒結(jié)釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復(fù)合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì)生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對(duì)大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結(jié)釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類：PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿足要求。PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。