真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。

3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。

三：無環(huán)境污染：目前國家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，因?yàn)橐磺绣儗淤Y料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的損害適當(dāng)小。

可是因?yàn)槿〉谜婵蘸偷入x子體的儀器設(shè)備精細(xì)貴重，并且堆積技術(shù)還把握在少量技術(shù)人員手中，沒有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用貴重.可是跟著社會的不斷進(jìn)步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢會越來越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

五金與塑料電鍍材料上的區(qū)別

五金電鍍的基材是金屬，而塑料電鍍的基材是塑料。由于基材不一樣，其前期所處理的工藝完全不一樣，但是后續(xù)電鍍基本都一樣。這是從兩者材料上所發(fā)現(xiàn)的區(qū)別。

 您知道電鍍加工廠表面工程的功能嗎？今天小編來具體為大家分析下，希望對大家有所幫助。

 表面工程是多學(xué)科交叉、綜合，多技術(shù)融合、集成的新興學(xué)科，表面工程的優(yōu)勢是能夠以低成本、低能耗制備出優(yōu)于本體材料性能、多于本體材料功能，更加適宜于服役環(huán)境要求的新表面。