引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。

電子束光學(xué)鍍膜機有哪些特點

在玻璃/PMMA/PC基片上形成光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。

基片傘架采用了每分鐘可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式(2臺電子槍，10kW型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。

采用本公司獨有的比率控制法和多點在線監(jiān)控，可以形成且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。

可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。

沖壓件真空鍍膜設(shè)備

工具經(jīng)沖壓件真空鍍膜設(shè)備硬質(zhì)涂層處理后，其性能更穩(wěn)定，可出穩(wěn)定、高質(zhì)量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半徑受到磨損，顯著延長工具的使用壽命；使用壽命的延長和行程率的提高在提高生產(chǎn)率的同時降低了單位成本；底層堅硬而頂層摩擦低的涂層系統(tǒng)，降低了粘附磨損，從而可能減少對環(huán)境產(chǎn)生不良影響的潤滑劑的用量，甚至完全不使用潤滑劑；因為涂層減少了工具負(fù)荷并因而降低了破損風(fēng)險，生產(chǎn)可靠性得以提高，對于金屬薄板成型工具，涂層可用作磨損指示器，磨損和冷焊的減少改進(jìn)了工件的表面質(zhì)量，也使工件能夠滿足對其外觀的更高要求，光潔度也與隨后的電鍍工藝更加相匹配。

真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運動部件的設(shè)計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。