光學(xué)鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍及光學(xué)鍍膜技術(shù)原理

AF AR光學(xué)鍍膜機(jī)專門為層數(shù)不多，但要求產(chǎn)能大、的光學(xué)薄膜產(chǎn)品鍍膜生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于玻璃和塑膠光學(xué)鏡片AF、AS膜的鍍膜生產(chǎn)，也適用于手機(jī)視窗（玻璃或塑膠）、塑膠片材彩色光學(xué)膜的制備?，F(xiàn)已經(jīng)廣泛投入到市場(chǎng)中使用，也受到眾多商家的認(rèn)可和喜愛。

AF光學(xué)鍍膜機(jī)性能和原理：提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能，并通過提高設(shè)備產(chǎn)率和穩(wěn)定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

AF光學(xué)鍍膜機(jī)適用性：除手機(jī)、平板電腦、車載顯示器等觸控產(chǎn)品外，也適用于在其他數(shù)碼產(chǎn)品、電器、衛(wèi)浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑度、易清潔性。

AF光學(xué)鍍膜機(jī)裝飾性：無論對(duì)于手機(jī)等數(shù)碼產(chǎn)品，還是電器、衛(wèi)浴等有相同裝飾性要求的產(chǎn)品，通過底層鍍制顏色膜和透明介質(zhì)多層膜實(shí)現(xiàn)多種色彩、色調(diào)和金屬光澤，并能配合絲印、熱轉(zhuǎn)印、鐳雕和拉絲工藝，得到多種色調(diào)的炫彩光澤，加強(qiáng)條紋和圖案的立體視覺。

真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

繞鍍能力強(qiáng)：離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。

因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。

鍍層質(zhì)量好：離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備具有結(jié)構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

可鍍基材表面狀態(tài)：電鍍亮面、啞光面（半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等?？筛鶕?jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。