中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹姟Ｒ虼?，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

連續(xù)式磁控濺射鍍膜設備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套鍍膜設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

優(yōu)勢：設備模組化設計，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

在鍍膜的過程中，出現(xiàn)異樣具體該真么處理呢？

大家在鍍膜的過程中，可能有時候會發(fā)現(xiàn)，膜層上有時會出現(xiàn)白點的異樣發(fā)生，經(jīng)過技術人員的檢測和排查，大部分都是因為產(chǎn)品周轉(zhuǎn)運輸或在爐內(nèi)生產(chǎn)時素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。所以大家在使用真空磁控濺射鍍膜機鍍膜過程中縮短產(chǎn)品在爐外停滯時間及爐內(nèi)潔凈度管控，減少異物掉落在產(chǎn)品表面。有時膜層也會出現(xiàn)掉膜（點狀掉膜、局部掉膜、邊緣掉膜）情況，不知道大家有沒有碰到過。它主要產(chǎn)生的原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無法在產(chǎn)品上沉積或結(jié)合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材，所以大家在鍍膜前，一定要把產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。還有一種經(jīng)常出現(xiàn)的情況，就是出現(xiàn)彩虹紋（產(chǎn)品發(fā)彩，出現(xiàn)這種情況主要原因是彩虹紋主要體現(xiàn)在顏色較深的產(chǎn)品上，因生產(chǎn)過程中形成一定角度遮擋，膜層無法均勻、有效的覆蓋在產(chǎn)品表面。因此鍍膜的時候，要更改更改裝夾方式，或者提高成膜能量。有的客戶會發(fā)現(xiàn)，產(chǎn)品鍍膜出來后會出現(xiàn)臟污情況，導致出現(xiàn)這個主要原因是產(chǎn)品出爐后周轉(zhuǎn)過程中因人為因素造成的表面污染,解決流程是產(chǎn)品PVD下掛、檢查、打包作業(yè)人員手套、指套潔凈度及環(huán)境管控。

真空鍍膜機如何安全操作

真空鍍膜機如何安全操作 真空系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，高溫真空泵油加系統(tǒng)的使用，真空鍍膜機稍有不慎燃燒的危險，所以在工作的過程中，必須嚴格操作過程中安裝和操作規(guī)范，要慎重，熱泵經(jīng)驗人是危險的，旋轉(zhuǎn)部件可能傷害人的危險，所以要注意在生產(chǎn)過程中不可接近的增壓泵和擴散泵，滑閥泵與羅茨泵的手術前護罩必須是完整的，人不可近。真空鍍膜機的設備卷繞系統(tǒng)可能是危險的傷害在操作過程中的人，真空鍍膜機所以在后掩蔽和清潔輥速度不太快，不超過30米/分鐘，速度不超過10米/分鐘的電影。