真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見(jiàn)：氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見(jiàn)辦法）。檢漏時(shí)，先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測(cè)定，當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后，用一個(gè)充溢氦氣的查驗(yàn)罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來(lái)，如圖4所示。查驗(yàn)罩充氦時(shí)先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會(huì)有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時(shí)刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時(shí)刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時(shí)刻小于0.5s,因而氦罩時(shí)刻30s即可。氦罩法可方便地測(cè)定被檢件總漏率，不會(huì)漏掉任何一處漏點(diǎn)，但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對(duì)被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時(shí)，氦氣就經(jīng)過(guò)漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測(cè)出，噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點(diǎn)。

真空鍍膜設(shè)備的處理方法

空鍍膜設(shè)備廠家分析真空鍍膜設(shè)備的處理方法 加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。 對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至較小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法 目前商業(yè)上已有很精制的設(shè)備安裝在顯微鏡下的載物臺(tái)的位置上。濺射鍍膜時(shí)，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉(zhuǎn)到面對(duì)電子槍（陰極）的位置，調(diào)節(jié)濺射室中的氣壓，輝光放電，陰極濺射，反應(yīng)濺射沉積。一定時(shí)間后，中斷濺射，把濺射沉積的試樣表面，轉(zhuǎn)回到面對(duì)物鏡的位置，觀察試樣表面的顏色，來(lái)評(píng)定沉積膜的厚度，當(dāng)要求的顏色得到時(shí)，鍍膜操作停止。