至成鍍膜機(jī)多靶離子束濺射鍍膜機(jī)

至成鍍膜機(jī)多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是研究超導(dǎo)、類金剛石、光學(xué)、磁性等高質(zhì)量薄膜和材料表面改性的光機(jī)一體化的現(xiàn)代化鍍膜設(shè)備。該機(jī)采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來，沉積在基片上成膜。可鍍制任意材料，包括金屬、合金、超導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體等。該機(jī)采用80年代剛剛發(fā)展起來的離子束濺射技術(shù)，利用雙離子源、主槍，對(duì)靶材轟擊，輔槍在鍍前對(duì)基片進(jìn)行清洗，增強(qiáng)基片的活性，提高結(jié)合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜，增強(qiáng)沉積原子表面擴(kuò)散和遷移，減少薄膜結(jié)晶結(jié)的缺陷，并配有對(duì)基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉(zhuǎn)、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

真空鍍膜的膜層厚度如何測(cè)量？

在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后，為了需要可能會(huì)要測(cè)量膜層的厚度，測(cè)量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的精準(zhǔn)度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。

光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿珳?zhǔn)地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。

精準(zhǔn)度的改進(jìn)源于很多因素，但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。

離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實(shí)大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如：拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑，或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi)，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì)；激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留，還會(huì)有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物，這些處理引起的污染不徹底清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調(diào)整清洗工藝，對(duì)不同的污染，可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽(yáng)極電解、或采用針對(duì)性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù)，該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?

多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來

我國(guó)在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對(duì)能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國(guó)外先進(jìn)水平。同時(shí)，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國(guó)內(nèi)機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國(guó)外技術(shù)的被動(dòng)局面；對(duì)提高我國(guó)裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個(gè)非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對(duì)環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。

目前，國(guó)際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國(guó)內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長(zhǎng)，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時(shí)，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。