化學(xué)拋光中往往同時(shí)產(chǎn)生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時(shí)必須注意的問題。另外拋光液溫度高達(dá)100~200CC時(shí)，還會(huì)發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時(shí)間。

化學(xué)拋光與機(jī)械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學(xué)拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

化學(xué)拋光工藝有哪些特點(diǎn)？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡單，無需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因?yàn)檫@些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。

化學(xué)拋光是一種特殊條件下的化學(xué)腐蝕，它是通過控制金屬表面選擇性的溶解而使金屬表面達(dá)到整平和光亮的金屬加工過程。所謂選擇性的溶解，是指被拋光面的金相學(xué)的、結(jié)晶學(xué)的以及幾何學(xué)的不均勻性受到不均勻的溶解，凸出部溶解多，而凹谷處溶解很少，結(jié)果表面就由凹凸不平而變得平整光亮。

為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來認(rèn)識。