半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子拋光又稱為“納米拋光”，是目前行業(yè)廣為應(yīng)用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理，在特定的浴液中將工件置于陽(yáng)極。在適溫環(huán)境下，溶液中產(chǎn)生能量巨大的等離子態(tài)，當(dāng)?shù)入x子與工件摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的材料去除。

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。

其拋光技術(shù)不使用對(duì)環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學(xué)物品，但它的拋光效果卻能夠達(dá)到傳統(tǒng)方法很難達(dá)到的，拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的，生產(chǎn)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)拋光成本。

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.

雖說(shuō)拋光時(shí)間相對(duì)增加，但任然不會(huì)傷到基材表面，相反會(huì)大大增加返鍍的良率（因?yàn)榈入x子拋光能很好提高表面的光澤度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光潔，導(dǎo)電性能好）。

等離子拋光的確是真空鍍膜或真空鍍膜前處理不可缺少的工藝，并且他也將以對(duì)人體無(wú)傷害，對(duì)環(huán)境無(wú)污染，成本低的優(yōu)勢(shì)壓倒電解工藝，同時(shí)也為真空鍍膜或真空鍍膜解除更多的不良因素，為真空鍍膜或真空鍍膜出的產(chǎn)品而多做貢獻(xiàn)。

等離子拋光現(xiàn)在可以做哪些材料的拋光？

現(xiàn)該工藝可實(shí)現(xiàn)對(duì)不銹鋼，碳鋼，5系以上鋁合金，銅及銅合金，鋅合金，粉末冶金及非晶（液態(tài)金屬）表面的拋光。鈦合金及其他合金的拋光方案正在研發(fā)中。電漿拋光廠

等離子拋光不同于電解拋光，電解拋光主要是選用高濃度的酸作為電解液通過(guò)電化學(xué)兩極作用，對(duì)金屬表面的溶解腐蝕來(lái)完成拋光，屬于高污染工藝。等離子拋光是在低濃度的工業(yè)鹽溶液中氣膜放電完成拋光。