腐蝕機(jī)，主要用于電路板精密線路蝕刻；也可用于硬板、軟板、軟硬結(jié)合板、SMT模板、微波混合電路、殼體的蝕刻加工。    電路板濕處理設(shè)備，含分藥液加工單元和水洗兩個(gè)單元，中間和尾端有風(fēng)干裝置。用向移動(dòng)的工件噴射藥液的方式，對(duì)工件進(jìn)行顯影、蝕刻、去膜、水洗加工，是由液體噴射系統(tǒng)和工件移動(dòng)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)組成的。    所用液體為蝕刻劑時(shí)，蝕刻劑與電路板上的抗蝕劑不發(fā)生作用，只與未被抗蝕劑保護(hù)的在外的銅箔反應(yīng)，使銅元素較終以化合物的形式溶解到蝕刻劑中，被從電路板基材上去除，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)電路板選擇性的蝕刻加工。

離子植入：其是用來控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對(duì)半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機(jī)主要的供廠商為AMAT，中國(guó)部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)離子植入機(jī)需求可達(dá)5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個(gè)個(gè)濺擊出來，使被濺擊出來的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國(guó)相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國(guó)薄膜沉積設(shè)備龍頭，目前技術(shù)已達(dá)到14nm。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)薄膜沉積設(shè)備需求可達(dá)15億美元與20億美元。    測(cè)試：在晶圓完成制造之前，會(huì)有一道晶圓中測(cè)工序。在測(cè)試過程中，會(huì)檢測(cè)每一個(gè)芯片的電路功能。

不銹鋼表面化學(xué)加工

用三氯化鐵對(duì)不銹鋼制品的局部表面進(jìn)行腐蝕，在其表面刻畫出各種花紋、圖案、文字、LOGO等?；瘜W(xué)腐蝕過程是現(xiàn)在需腐蝕的不銹鋼表面涂上保護(hù)油墨或貼上不干膠。然后放入三氯化鐵和少量鹽酸組成的蝕刻液，不銹鋼表面層與三氯化鐵作用，生成的氯化物溶解在蝕刻液中或沉積在不銹鋼表面。

而根據(jù)上述工藝流程得知所需設(shè)備分別為：

工序1.涂布機(jī)：主要用于工件涂油墨做保護(hù)層，用涂布機(jī)上油墨是現(xiàn)如今技術(shù)成熟的一種方式，特點(diǎn)是均勻、省時(shí)、省人工、產(chǎn)量高、省耗材等等。

工序2.烤   箱：主要用于涂的油墨烤干，防止油墨流掛，加深固化

工序3.曝光機(jī)：主要用于光固工件上的局部感光油墨，形成圖像轉(zhuǎn)移，通過開啟紫外線燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線，將菲林片上的圖案轉(zhuǎn)移到涂有感光油墨的工件上

工序4.顯影機(jī)：主要用于感光工藝，曝光后將產(chǎn)品表面圖案顯現(xiàn)出來，然后進(jìn)入蝕刻工序，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。

工序5.蝕刻機(jī)：主要用于腐蝕工件上露出的金屬部分，使用蝕刻液通過高壓噴淋移除部分金屬的腐蝕設(shè)備。

工序6.超聲波清洗機(jī)：主要用于清洗經(jīng)過腐蝕后多余的油墨得到成品。

三氯化鐵是一種共價(jià)化合物，也是目前蝕刻(腐蝕)行業(yè)針對(duì)不銹鋼US304腐蝕性價(jià)比高且廣泛使用的化學(xué)品，三氯化鐵易溶于水并且有強(qiáng)烈的吸水性，能吸收空氣里的水而潮解。FeCl3融水后帶有6個(gè)結(jié)晶水FeCl3·6H2O又稱結(jié)合水。結(jié)晶水是結(jié)合在化合物中的水分子，它們并不是液態(tài)水。很多晶體含有結(jié)晶水，但并不是所有的晶體都含有結(jié)晶水。溶質(zhì)從溶液里結(jié)晶析出時(shí)，晶體里結(jié)合著一定數(shù)目的水分子，這樣的水分子叫結(jié)晶水。在結(jié)晶物質(zhì)中，以化學(xué)鍵力與離子或分子相結(jié)合的、數(shù)量一定的水分子，如受到外界影響。例如，在逐步升溫的條件下，CuSO4·5H2O可以分步失去結(jié)晶水，依次轉(zhuǎn)變?yōu)镃uSO4·3H2O、CuSO4·H2O 、CuSO4。某些水合物在加熱時(shí) ，可能和所含的結(jié)晶水發(fā)生水解反應(yīng)，轉(zhuǎn)變?yōu)檠趸锘驂A式鹽。